一六 荧光测厚仪 十年以上研发团队 集研发生产销售一体
元素分析范围:氯(CI)- 铀(U) 厚度分析范围:各种元素及有机物
一次可同时分析:23层镀层,24种元素 厚度检出限:0.005um
（一）、内部结构
X荧光光谱测厚仪机型很多，但是其内部结构如果先天不足，后期的外部结构无论自动化多高，也无法完全满足客户需求。
电镀测厚仪
一六 荧光测厚仪 十年以上研发团队 集研发生产销售一体
元素分析范围:氯(CI)- 铀(U) 厚度分析范围:各种元素及有机物
一次可同时分析:23层镀层,24种元素 厚度检出限:0.005um
（一）、内部结构
X荧光光谱测厚仪机型很多，但是其内部结构如果先天不足，后期的外部结构无论自动化多高，也无法完全满足客户需求。内部结构重要的3点：
1、X荧光发射和CCD观测是否同步和垂直？
2、测试样品是否可以变化测头到样品的距离？
3、X光照射面积从出口到样品的扩散情况。
（二）、各种内部结构的优缺点
1、X荧光发射和CCD观测样品只有同步且垂直才不会因为样品的高低深浅变化而改变测试到样品的位置，才能保证定位精准，同时减少与探测器或计数器的夹角，夹角小测试时
受样品曲面或者倾斜影响小。
2、测试样品距离可变化才能测试高低不平带凹槽的样品工件，同时也兼顾好平面样品的测试。但是它需要配备变焦镜头和变焦
补偿射线的算法。
3、X光照射面积从出口到样品的扩散过于严重会导致无法测试样品工件上较小的平面位置，如果减小出口（准直器直径），又会严重耗损X光的强度。
因此一台此类仪器的小准直器不是关键，但是测试面积却是个重要的指标。
江苏一六仪器有限公司是一家专注于光谱分析仪器研发、生产、销售的高新技术企业。公司位于上海和苏州中间的昆山市城北高新区。我们的研发团队具备十年以上的从业经验，经与海内外多名通力合作，研究开发出一系列能量色散X荧光光谱仪
X射线荧光光谱分析仪结构及组成：用X射线照射式样时，试样可以被激发出各种波长的荧光X射线，需要把混合的X射线按波长（或能量）分开，分别测量不同波长（或能量）的X射线的强度，以进行定性和定量分析，为此试用的仪器叫X射线荧光光谱仪。操作，能适应多类镀层，大量检测，但体积较大，计算机除外约100000cm2，50000g左右。由于X光具有一定的波长，同事又有一定能量，因此，X射线荧光光谱仪有2种基本类型：波长色散型（WD）和能量色散性（ED）。
波长色散型是由色散元件将不同波长的特征X射线衍射到不同的角度上，探测器需移动到想要的位置上来探测某一波长能量的射线。而能量色散型，是由探测器本身的能量分辨本领直接探测X射线的能量。70%EDX是借助于分析试样发出的元素特征X射线波长和强度实现的，根据不同元素特征X射线波长的不同来测定试样所含的元素。波长色散型谱线分辨本领高，而能量色散型可同时测量多条谱线的能量。
江苏一六仪器 X荧光光谱测厚仪 特点
：1分钟就可以测定样品镀层的厚度，并达到测量精度要求。
方便：X荧光光谱仪部分机型采用进口国际上的电制冷半导体探测器，能量分辨率更优于135eV，测试精度更高。并且不用液氮制冷，不用定期补充液氮，操作使用更加方便，并且运行成本比同类的其他产品更低。
无损：测试前后，样品无任何形式的变化。
直观：实时谱图，可直观显示元素含量。
测试范围广：X荧光光谱仪，是一种物理分析方法，其分析与样品的化学结合状态无关。对在化学性质上属同一族的元素也能进行分析,抽真空可以测试从Na到U。
可靠性高：由于测试过程无人为干扰因素，仪器自身分析精度、重复性与稳定性很高。所以，其测量的可靠性更高。
满足不同需求：测试软件为WINDOWS操作系统软件，操作方便、功能强大，软件可监控仪器状态，设定仪器参数，并就有多种的分析方法，工作曲线制作方法灵活多样，方便满足不同客户不同样品的测试需要。
：相比化学分析类仪器，X荧光光谱仪在总体使用成本上有优势的，可以让更多的企业和厂家接受。
简易：对人员技术要求较低，操作简单方便,并且维护简单方便。
江苏一六仪器有限公司是一家专注于光谱分析仪器研发、生产、销售的高新技术企业。开始测量：点击开始测试图标，进行样品测试或者按动仪器前面板测试按钮进行样品测试13。我们的研发团队具备十年以上的从业经验，经与海内外多名通力合作，研究开发出一系列能量色散X荧光光谱仪。稳定的多道脉冲分析采集系统、的解谱方法和EFP算法结合精准定位及变焦结构设计，解决了各种大小异形、多层多元素的涂镀层厚度和成分分析的业界难题
目前，金属镀层常用的分析方法有湿化学电解分析、辉光放电---发射光谱分析（GD-OES）和X射线荧光光谱仪等。湿化学电解分析需选用适当溶剂溶解选定的镀层，逐层溶解并进行测定，方法准确但费时费力，尤其是相关特定溶剂的选择也非常复杂，价格又贵，属于典型破坏性样品检测，测量手段手段繁琐，速度慢，电解液耗损大，目般很少应用。1mm的小孔准直器可以满足微小测试点的需求一次可同时分析多达五层镀层度适应范围为15℃至30℃镀层厚度一般在50μm以内（每种材料有所不同）分析含量一般为2ppm到99。GD-OES方法用惰性原子逐层轰击及剥离试样表层，再用发射光谱测定，这种方法可实现剖面或逐层分析，但测量重复性并不理想。
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