2.2.2偏压溅射biassputtering：在溅射过程中，将偏压施加于基片以及膜层的溅射。
2.2.3直流二级溅射directcurrenodesputtering：通过二个电极间的直流电压，使气体自持放电并把靶作为阴极的溅射。
2.2.4非对称流溅射asymmtricalternatecurrentsputtering：通过二个电极间的非对称流电
pvd真空镀膜加工厂
2.2.2偏压溅射biassputtering：在溅射过程中，将偏压施加于基片以及膜层的溅射。
2.2.3直流二级溅射directcurrenodesputtering：通过二个电极间的直流电压，使气体自持放电并把靶作为阴极的溅射。
2.2.4非对称流溅射asymmtricalternatecurrentsputtering：通过二个电极间的非对称流电压，使气体自持放电并把靶作为吸收较大正离子流的电极。
2.2.5高频二极溅射highfrequencydiodesputtering：通过二个电极间的高频电压获得高频放电而使靶极获得负电位的溅射。
2.2.6热阴极直流溅射（三极型溅射）hotcathodedirectcurrentsputtering：借助于热阴极和阳极获得非自持气体放电，气体放电所产生的离子，由在阳极和阴极（靶）之间所施加的电压加速而轰击靶的溅射。
在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
真空镀膜技术初现于20世纪30年，四五十年开始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。
真空镀膜pvd真空镀膜加工厂
真空镀膜的优点
TiN
中文名:氮化钛;
颜色:金色;
硬度:2300HV;
摩擦系数:0.23VSNi;
zui高工作温度:580℃;
优点:增加表面硬度、减少摩擦力;可低温涂层，适合低温零件;避免刀口之积屑现象;广泛应用於钢料成型加工。
pvd真空电镀具有沉积速度快和表面清洁的特点，特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀材料广泛等优点。 采用的磁控溅射离子镀膜和多弧离子镀膜工艺设备，及在此基础之上与国际的工艺。凭借在装饰镀行业十多年的宝贵经验，为客户提供适合的涂层加工方案。
真空镀膜常用在相机镜头、近视、、老花镜等矫正眼镜上使用。
真空镀膜是在表面镀上非常薄的透明薄膜。目的是希望减少光的反射，增加透光率，抗紫外线并抑低耀光、鬼影;不同颜色的真空镀膜，也使的成像色彩平衡的不同。此外，真空镀膜尚可延迟镜片老化、变色的时间。
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