光刻胶介绍
光刻胶介绍
光刻胶是一种对光线、温度、湿度十分敏感的材料，可以在光照后发生化学性质的改变，这是整个工艺的基础。
光刻胶有不同的类型，PMMA（PMGI）以及DNQ（酚醛树脂）等材料都可以做光刻胶。
目前光刻胶市场上的参与者多是来自于美国、日本、韩国等，包括 FUTURREX、陶氏化学、杜邦、富士胶片、信越化学、住友化学、LG化学
NR9 8000光刻胶报价
光刻胶介绍
光刻胶介绍
光刻胶是一种对光线、温度、湿度十分敏感的材料，可以在光照后发生化学性质的改变，这是整个工艺的基础。
光刻胶有不同的类型，PMMA（PMGI）以及DNQ（酚醛树脂）等材料都可以做光刻胶。
目前光刻胶市场上的参与者多是来自于美国、日本、韩国等，包括 FUTURREX、陶氏化学、杜邦、富士胶片、信越化学、住友化学、LG化学等等，公司在光刻胶领域也缺少核心技术。
北京赛米莱德贸易有限公司供应美国Futurrex新型lift-off光刻胶NR9-3000PY，NR9i-3000PY有下面的优势： 1. 比较高的光刻速度，可以定制光刻速度来曝光产量 2. 比较高的分辨率和快的显影时间 3. 根据曝光能量可以比较容易的调整侧壁角度 4. 耐温可以达到100摄氏度 5. 用RR5去胶液可以很容易的去胶 NR9-3000PY的制作和工艺是根据职业和环境的安全而设计。预计2017和2018年半导体用光刻胶市场将分别达到15。
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