X射线测厚仪结构
一六 荧光测厚仪 十年以上研发团队 集研发生产销售一体
元素分析范围:氯(CI)- 铀(U) 厚度分析范围:各种元素及有机物
一次可同时分析:23层镀层,24种元素 厚度检出限:0.005um
（一）、外部结构原理图
X荧光做镀层分析时，根据射线是至上而下照射样品，还是至下而上照射样品的方式，将X荧光分析仪的
荧光测厚仪
X射线测厚仪结构
一六 荧光测厚仪 十年以上研发团队 集研发生产销售一体
元素分析范围:氯(CI)- 铀(U) 厚度分析范围:各种元素及有机物
一次可同时分析:23层镀层,24种元素 厚度检出限:0.005um
（一）、外部结构原理图
X荧光做镀层分析时，根据射线是至上而下照射样品，还是至下而上照射样品的方式，将X荧光分析仪的外部整体结构分为：上照射和下照射两种结构。
（二）、各种外部结构的特点
1、上照射方式
用于照射(激发)的X射线是采用由上往下照射方式的设备称为上照射仪器。此类设备的Z轴为可移动方式，用于确定射线照射光斑的焦点，确保测量的准确性。
①、Z轴的移动方式
根据Z轴的移动方式，分为自动和手动两类；
自动型的设备完全由程序与自动控制装置实现，其光斑对焦的重现性与准确度都很高，而且使用非常简便（一般是与图像采集系统与控制系统相结合的方式），一般只需要用鼠标在图像上点击一下即可定位。经典模型认为物质的表面并不是一个抽象的几何概念，而是由刚性球的原子（分子）紧密排列而成，是实际存在的一个物理概念。此类设备对于测试形状各异的样品非常方便，也是目前主流的分析设备类型。
手动型设备，一般需要用人观察图像的方式，根据参考斑点的位置，手动上下调节Z轴方向，以达到准确对焦的目的。因此，往往在测试对象几何结构基本上没有变化的情况下使用比较快捷。
②、X、Y轴水平移动方式
水平移动方式一般分为：无X、Y轴移动装置；手动X、Y轴移动装置；电动X、Y轴移动装置；全程控自动X、Y轴移动装置。
这几类的设备都是根据客户实际需要而设计的，例如：使用无X、Y轴移动装置的也很多，结构简单，样品水平移动完全靠手动移动，这种设备适合于样品面积较大，定位比较容易的测试对象。
一六仪器 测厚仪 多道脉冲分析采集,EFP算法 X射线荧光镀层测厚仪
应用于电子元器件,LED和照明,家用电器,通讯,汽车电子领域.EFP算法结合精准定位决了各种大小异形多层多元素的涂镀层厚度和成分分析的业界难题
常规镀层厚度分析仪的原理
对材料表面保护、装饰形成的覆盖层，如涂层、镀层、敷层、贴层、化学生成膜等，在有关和中称为覆层（coating）。样品薄膜是使用方便简捷，无污染的测试用样品薄膜，广泛应用于Elite、fischer、牛津、博曼、先锋、日立、天瑞等各种的EDX/XRF光谱仪。覆层厚度测量已成为加工工业、表面工程质量检测的重要一环，是产品达到优等质量标准的必备手段。为使产品国际化，我国出口商品和涉外项目中，对覆层厚度有了明确的要求。
覆层厚度的测量方法主要有：楔切法，光截法，电解法，厚度差测量法，称重法，X射线荧光法，β射线反向散射法，电容法、磁性测量法及涡流测量法等。
江苏一六仪器 X射线荧光测厚仪工作原理
当原子受到X射线光子(原级X射线)或其他微观粒子的激发使原子内层电子电离而出现空位，原子内层电子重新配位，较外层的电子跃迁到内层电子空位，并同时出次级X射线光子，此即X射线荧光。X射线波长色散型光谱仪一般有光源（X-射线管）、样品室分光晶体和检测系统等组成。较外层电子跃迁到内层电子空位所释放的能量等于两电子能级的能量差，因此，X射线荧光的波长对不同元素是特征的，根据元素X射线荧光特征波长对元素做定性分析，根据元素释放出来的荧光强度，来进行定量分析如元素厚度或含量分析。
根据色散方式不同，X射线荧光分析仪相应分为X射线荧光光谱仪(波长色散)和X射线荧光能谱仪(能量色散)。X射线荧光光谱仪主要由激发、色散、探测、记录及数据处理等单元组成。Moseley)发现，荧光X射线的波长λ与元素的原子序数Z有关，其数学关系如下:λ=K(Z-s)-2这就是莫斯莱定律，式中K和S是常数，因此,只要测出荧光X射线的波长,就可以知道元素的种类,这就是荧光X射线定性分析的基础。激发单元的作用是产生初级X射线。它由高压发生器和X光管组成。后者功率较大，用水和油同时冷却。色散单元的作用是分出想要波长的X射线。它由样品室、狭缝、测角仪、分析晶体等部分组成。通过测角器以1∶2速度转动分析晶体和探测器，可在不同的布拉格角位置上测得不同波长的X射线而作元素的定性分析。探测器的作用是将X射线光子能量转化为电能，常用的有盖格计数管、正比计数管、闪烁计数管、半导体探测器等。记录单元由放大器、脉冲幅度分析器、显示部分组成。通过定标器的脉冲分析信号可以直接输入计算机，进行联机处理而得到被测元素的含量。
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