氧化镁(MgO)单晶是指MgO含量在99.95%以上，具有极强的耐高低温（高温2500℃，低温-270℃）抗腐蚀性、绝缘性和良好的导热性和光学性能、无色透明的晶体。氧化镁(MgO)单晶广泛用于航空、航天、国1防通讯、医1疗器械、光学仪器、等离子电视机保护膜蒸发源等领域。在等离子显示屏PDP中更是理想的电板保护膜材料是决定PDP寿命的主要因素，同时对PDP的工作性能(亮度和光效记
氧化镁晶体基片
氧化镁(MgO)单晶是指MgO含量在99.95%以上，具有极强的耐高低温（高温2500℃，低温-270℃）抗腐蚀性、绝缘性和良好的导热性和光学性能、无色透明的晶体。氧化镁(MgO)单晶广泛用于航空、航天、国1防通讯、医1疗器械、光学仪器、等离子电视机保护膜蒸发源等领域。在等离子显示屏PDP中更是理想的电板保护膜材料是决定PDP寿命的主要因素，同时对PDP的工作性能(亮度和光效记忆容量着火电压等)有较好影响。
氧化镁（MgO）单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中。用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等,也可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。氧化镁单晶基片是高频微波器件高温超导薄膜zui常选用的主要衬底材料之一， 也是当前可实现产业化的重要的高温超导薄膜基片。氧化镁（MgO）是离子化合物，同样也是离子晶体，因为氧化镁是由氧离子和镁离子通过离子键结合成的.。
在高温超导领域，氧化镁晶体作为薄膜生长基片和半导体材料的衬底驻基片同其它材料相比(如金刚石、白蓝宝石等)具有明显的价格优势，且性能良好。氧化镁的熔点在2800°C以上，沸点为3600°C，所以要想得到大尺寸、高纯度的氧化镁单晶，对原料的选择和控制要求非常严格。其次，要得到生长好、大尺寸的高质量晶体，整个冶炼过程非常耗时耗能，将长达几十个小时。
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