蚀刻：蚀刻(etching)是将材料使用bai化学反应或物理du撞击作用而移除的技术。蚀刻的原理zhi是氧化还原反应中的置换dao反应：2AgNo3+Cu=Cu(No3)*2+2Ag。利用蚀刻液与铜层反应,蚀去线路板上不需要的铜,得到所要求的线路。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。
显影：显影是在印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像
手机壳曝光显影抛光
蚀刻：蚀刻(etching)是将材料使用bai化学反应或物理du撞击作用而移除的技术。蚀刻的原理zhi是氧化还原反应中的置换dao反应：2AgNo3+Cu=Cu(No3)*2+2Ag。利用蚀刻液与铜层反应,蚀去线路板上不需要的铜,得到所要求的线路。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。
显影：显影是在印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。通过碱液作用，将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉。显影包括正显影和反转显影。
首先考虑，当我们将整画幅都暴露在明亮光线下时会出现什么情况。比如我们不小心打开了照相机，将胶片暴露在明亮的太阳光下。显影这样的一幅胶片时会发生什么呢？几乎所有的卤化银晶体都将变为黑色的金属银，结果得到的底片是全黑的。
其次再考虑，当我们显影一幅没有经过任何曝光的胶片时会出现什么情况。比如有时我们不能确定一卷胶片是否已经拍摄过，为安全起见，我们对其显影。如果该卷从未曝光，便会得到一整卷透明的底片--所有的卤化银晶体在显影时都被冲洗掉了，剩下的便只是透明的片基了。
倒出显影液，用清水冲洗 30 秒，然后注入柯达F-5酸性定影液，搅拌 10 分钟，完成定影；倒出定影液，取出冲洗加工好的胶卷，用清水冲洗干净，凉干。正片成像；了解放大机的基本结构及使用方法；选择拍摄的底片，将底片放入底片夹内，乳剂面向下；开启曝光定时器电源开关，按下定时器调焦按钮，在放大机上进行调焦，待影像清晰后，调焦完毕，关闭调焦按钮；
在曝光机橡皮膜接触菲林底片一侧粘上一块绒布，绒毛朝菲林底片，绒布的背面绕上几圈铜丝，铜丝与橡皮膜的接地线相连，防止绒布产生静电。绒布和橡皮膜之间不好粘贴，要选用合适的胶水，但不宜使用含有有机溶液的胶水，否则容易损坏橡皮膜。此法生产效率较高，但同样不能杜绝偏移。
以上几种方法中，实用的是前面一种。虽然效率低些，但相对于因偏移造成返工甚至使PCB报废而言还是值得采用的。
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