Parylene裂解仪
Parylene用的真空气相沉积工艺（CVD技术）制备，由活性小分子在基材表面'生长'出完全敷形的聚合物薄膜涂层，它能涂敷到各种形状的表面，包括尖锐的棱边，号称'无孔不入'可深入裂缝里和内表面。流路系统经镀层处理，背景干扰小想要了解更多沈阳鹏程真空技术有限责任公司的相关信息，欢迎拨打图片上的热线电话。这种真空状态下室温沉积制备的0.1-100微
300C有机无机联合蒸发镀膜机厂
Parylene裂解仪
Parylene用的真空气相沉积工艺（CVD技术）制备，由活性小分子在基材表面'生长'出完全敷形的聚合物薄膜涂层，它能涂敷到各种形状的表面，包括尖锐的棱边，号称'无孔不入'可深入裂缝里和内表面。流路系统经镀层处理，背景干扰小想要了解更多沈阳鹏程真空技术有限责任公司的相关信息，欢迎拨打图片上的热线电话。这种真空状态下室温沉积制备的0.1-100微米薄膜涂层，厚度均匀、致密无、透明无应力、不含助剂、不损伤工件、有优异的电绝缘性和防护性，甚至被称为当今世界的防潮、防霉（零级）、防腐、防盐雾的特殊防护涂层。Parylene涂层在具备以上优异防护性能基础上,尤其还具有良好的生物兼容性,生物稳定性，并有优异的自润滑性,涂层均匀可控性,以及好的物理机械性能。
1.一腔体，采用SUS304不锈钢舱体有效镀膜空间 ≧ 直径300mm x 高度350mm，腔体设有观景窗, 采用掀盖式腔盖并设有把手以便腔盖开闭。
2. 旋转平台，可承载重量: 20公斤,旋转速度: 0.5至10 rpm。
3. 油式泵浦，抽气速度 ≧ 200L/min ; 压力 ≦ 5*10-3Torr。
4. 控制系统，采用具PID功能之温控模块及高的精度温度传感器，系统可进行自动或半自动(温控/真空)操作,并可储存与选择Recipe 。
5. 附属冷凝机，温度 ≦ -90℃
期望大家在选购电阻热蒸发镀膜产品时多一份细心，少一份浮躁，不要错过细节疑问。想要了解更多电阻热蒸发镀膜产品的相关资讯，欢迎拨打图片上的热线电话！！！
300C有机无机联合蒸发
主要用途：
用于制备导电薄膜，半导体薄膜，铁电薄膜，光学薄膜等。
系统组成:
该蒸镀设计系统主要由真空抽气及真空测量系统、真空室系统、工件架系统、蒸发源系统、膜厚测试系统、蒸发舟挡板系统、烘烤照明系统、水冷却循环及报警系统、电控及控制系统、辅助系统等设计。
技术指标：
极限真空度：≤6.7×10 Pa
恢复真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min
系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；
真空室：Ф400 x400mm圆筒型真空室 ，
蒸发源：1-4个，采用电阻蒸发舟、蒸发蓝、绞丝、束源炉至下向上蒸发镀膜。
蒸发温度：加热温度：室温～1800℃；
蒸发舟在距中心100～160mm的圆周上；蒸发舟可上下升降，调节幅度0～150mm（样品中心与坩埚距离150~300mm）；
工作架类型及尺寸：样品托盘直径Φ300mm，其上可放多个直径20mm的小样品；样品托盘具有自转功能，转速在0～20 转/分钟，转速可调；样品托盘可摆角，角度在0～30度可调；
烘烤温度：400℃数显自动热偶控温（高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到700℃）
电阻蒸发源：电压5V，10V，功率2.5KW，水冷电极1~4对
石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999
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