微纳米气泡清洗应用
用微纳米气泡冲洗的据说非常难以加工的半导体晶片的照片。当在制造过程中注入大量离子时，在光致抗蚀剂表面附近会形成称为硬皮的硬化层。当形成这样的硬化层时，
去除光致抗蚀剂变得非常困难。甚至硫酸/是一种强大的化学溶液，也不容易去除。但是，如果使用含臭氧的微纳米气泡，则只能用水将其清除23）。当然，普通的臭氧水根本不能解决问题，但是有可能通过使用微纳米气泡
小型纳米气泡发生器性能参数
微纳米气泡清洗应用
用微纳米气泡冲洗的据说非常难以加工的半导体晶片的照片。当在制造过程中注入大量离子时，在光致抗蚀剂表面附近会形成称为硬皮的硬化层。当形成这样的硬化层时，
去除光致抗蚀剂变得非常困难。甚至硫酸/是一种强大的化学溶液，也不容易去除。但是，如果使用含臭氧的微纳米气泡，则只能用水将其清除23）。当然，普通的臭氧水根本不能解决问题，但是有可能通过使用微纳米气泡来建立环保的清洁技术。
那么，为什么可以在形成结壳层之后除去半导体晶片，该结壳层即使仅用水也很难用强化学溶液处理？为了将来将该技术引入现场，有必要解决处理时间的问题，为此，阐明作用机理很重要。那里让我们研究微纳米气泡的特征。
微纳米气泡的特征
为了阐明微纳米气泡的特征，让我们比较两个模型。 也就是说，“水滴”漂浮在空气中，“气泡”漂浮在水中。 两者似乎相似，但是有什么区别呢？ 一个是被空气包围的水，另一个是它是被水包围的空气。 两者都具有气液界面，但是我想着眼于“动态变化”并进行比较。
为了阐明微纳米气泡的特征，让我们比较两个模型。 也就是说，“水滴”漂浮在空气中，“气泡”漂浮在水中。 两者似乎相似，但是有什么区别呢？ 一个是被空气包围的水，另一个是微纳米气泡是被水包围的空气。 两者都具有气液界面，但是我想着眼于“动态变化”并进行比较。
微纳米气泡产生方式简介
細孔式
Hisakizaki等人烧结了以Shirasu为原料的多孔玻璃，从平均孔径为84 nm的薄膜中产生了平均气泡直径为720 nm的纳米气泡。 必须添加表面活性剂以防止纳米气泡聚结。
旋转
Onoe等人通过使由定子内部的中心处的烧结体组成的转子高速旋转而自足地供给气体来进行反应性结晶，从而平均产生50μm的微纳米气泡。 该方法的优点是不需要液体泵。 它已经由Fuki Works和Nomura Electronics Co.，Ltd.商业化，用于净化湖泊和沼泽。
气泡是我们熟悉的，但是近年来微纳米气泡的性质已经变得很清楚。如图1所示，正常气泡在水中上升。 直径小于50μm的微纳米气泡（称为微气泡）在上升并在内部起毛时在水中收缩，然后在表面弹出。 但是，如果使气泡变小以形成纳米气泡（直径为200 nm或更小），它们将永远保留在水中，这将是非常有趣的。 在开发纳米气泡的过程中，工业技术研究院一直与合作进行使用微纳米气泡的水处理技术的研究。 在本文中，我们介绍了这些微/纳米气泡的特性以及其工程用途的可能性。
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