真空磁控阴极溅射法：平板玻璃在具有高真空的真空腔体内，处在负电压的两极间的工作气体正离子在正交电磁场的作用下飞向阴极，在很短的阴极位降区内获得很大的能量去迅速轰击靶材，从而使阴极(靶材)原子飞向玻璃基片--玻璃沉积膜层，溅射出的二次电子(此过程称γ过程)在电磁场作用下按旋轮线运动参与碰撞电离，蟹衍载流子，这样就能源源不断地轰击阴极，提供足够数量的正离子，形成的等离子区使持续辉光
化学气相沉积镀膜
真空磁控阴极溅射法：平板玻璃在具有高真空的真空腔体内，处在负电压的两极间的工作气体正离子在正交电磁场的作用下飞向阴极，在很短的阴极位降区内获得很大的能量去迅速轰击靶材，从而使阴极(靶材)原子飞向玻璃基片--玻璃沉积膜层，溅射出的二次电子(此过程称γ过程)在电磁场作用下按旋轮线运动参与碰撞电离，蟹衍载流子，这样就能源源不断地轰击阴极，提供足够数量的正离子，形成的等离子区使持续辉光放电，其可以一次完成多层镀膜，有着的膜层均匀性，的边缘复盖和良好的附着力。抽真空：将真空室内的残余气体抽走加热烘烤：炉体和工件同时加热，加速残余气体的释放压升率测试：测试炉体的漏气率和放气率轰击清洗：去除工件表面的杂志，露出新鲜表面镀膜：沉积膜层冷却：避免工件氧化变色。镀膜有着优于和区别于其它真空磁控溅射镀膜机的地方是：它的平面磁控靶上的磁场是由环形磁铁产生的，可将半园环形磁铁看成是无限T微扇柱状磁铁的组合 。所以，其相应点磁标势较稳定，才能生产出均匀牢固的镀膜层。
电镀按技术分类可分为蒸镀、溅镀、枪色等，水电镀因技术较简略，从设备到环境得要求均没有真空离子镀苛刻，然后被广泛使用。要减少化学气相沉积镀膜生产故障，提高化学气相沉积镀膜从业人员的技能和工作责任心是十分重要的。但水电镀有个缺陷，只能镀ABS料和ABS+PC料(此料镀的效果也不是很理想).而ABS料耐温只需80℃,这使得它的使用规划被约束了，而真空电镀可达200℃分配，这对运用在高温的部件就可以进行电镀处理了.像风嘴、风嘴环运用PC料，这些部件均要求耐130℃的高温，通常要求耐高温的部件，做真空电镀都要在毕竟喷一层UV油，这么使得商品外表既有光泽、有能耐高温、同时又加强其附着力。
真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。真空镀中对底涂层的要求：①对镀件与镀膜层有良好的接触性能与较高的结合力，热膨胀系数相差小，不起反应，流平性能好。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。
可承受常规消毒Parylene涂层被广泛应用于各类产品，如心脏起搏器、房间隔缺损封堵器.血管支架、人工耳、人工心脏、超声波探头、线路板，骨钉、临时手术器械、替换型器件、引流管、脑部探针及针头等产品。
在国外除了心脏起搏 器用派瑞林进行可靠绝缘防护外，脑电极、植入式传感器、射频、血液分析传感器和高频手术刀等微型电子，也都有使用派瑞林。
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