DZS800型电子束镀膜设备
主要用途：
用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，批量生产型。
系统组成:
系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、计算机系统及安装机台等部分组成。
技术指标：
极限真空度：≤6.7×10 Pa 恢复真空时间：从1×10 Pa抽至
高真空电子束镀膜机公司
DZS800型电子束镀膜设备
主要用途：
用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，批量生产型。
系统组成:
系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、计算机系统及安装机台等部分组成。
技术指标：
极限真空度：≤6.7×10 Pa 恢复真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min
系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；
真空室：真空室1200x9000 x800mm采用U型箱体前开门，后置抽气系统
e型电子枪：阳极电压：10kv(2套) 坩埚：水冷式坩埚，24穴设计，每个容量11ml
功率：0-10KW可调 电阻蒸发源(可选)
基片尺寸：可放置4″基片一次更换20个样品
样品台：基片可连续回转，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离350mm加热温度 400°C±1°C
气路系统：质量流量控制器1路
石英晶振膜厚控制仪：监测膜厚显围：0-99μ9999
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——电子束产品供应商，我们为您带来以上信息。
电子束原理介绍
沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售电子束产品，我们为您分析该产品的以下信息。
电子在电场中会受力而得到加速、提高能量，产生电子束。电子束焊原理一台电子增速器，注入的电子能量为20GeV（1GeV=109 eV，也就是10亿电子伏特），相应的电子速度为0.99999999979倍光速。电子经增速器加速后，能量可达到100GeV，电子速度达到0.999999999987倍的光速。沈阳鹏程真空技术有限责任公司——电子束供应商，我们为您带来以下信息。这说明，电子在这台增速器里速度几乎没有增加，而能量增加了4倍。
电子束镀膜原理
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电子束蒸镀是利用加速电子轰击镀膜材料，电子的动能转换成热能使镀膜材料加热蒸发，并成膜。电子枪有直射式、环型和E型之分。电子束加热蒸镀的特点是能获得极高的能量密度，可达109w/cm2，加热温度可达3000～6000℃，可以蒸发难熔金属或化合物;被蒸发材料置于水冷的坩埚中，可避免坩埚材料的污染，制备高纯薄膜；另外，由于蒸发物加热面积小，因而热辐射损失减少，热效率较高。如果您想要了解更多电子束产品的知识，欢迎拨打图片上的热线联系我们。但结构较复杂，且对较多的化合物，由于电子的轰击有可能分解，故不适合多数化合物的蒸镀。
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