酸能利用化学反应溶解金属。借此在金属表面蚀刻出图案，便可以替代劳动密集型且技术要求更高的手工雕刻。法国学者耶罕·勒贝格在1531年写下了酸浸蚀铁的配方。他从水与醋的混合物中提炼出出氯化铵、普通的明矾和流酸亚铁。基本原则大体是：金属被蚀刻时先要清洗，之后图上一层耐酸物质。这被称作为“抗蚀层”。在蜡层中刻出图案，使底下的金属部分显露出来。制备好的金属材料被浸渍在盐酸或者肖酸溶液中，直至其暴露的区域
拉丝面曝光显影工厂
酸能利用化学反应溶解金属。借此在金属表面蚀刻出图案，便可以替代劳动密集型且技术要求更高的手工雕刻。法国学者耶罕·勒贝格在1531年写下了酸浸蚀铁的配方。他从水与醋的混合物中提炼出出氯化铵、普通的明矾和流酸亚铁。基本原则大体是：金属被蚀刻时先要清洗，之后图上一层耐酸物质。这被称作为“抗蚀层”。在蜡层中刻出图案，使底下的金属部分显露出来。制备好的金属材料被浸渍在盐酸或者肖酸溶液中，直至其暴露的区域被刻蚀到所需的深度。之后将抗蚀层清除，就可展现出蚀刻的成品样子。烫金或者发黑都可以被用于突出图案。金属蚀刻制品上的图案往往比传统雕刻更方便而代价更少。
首先考虑，当我们将整画幅都暴露在明亮光线下时会出现什么情况。比如我们不小心打开了照相机，将胶片暴露在明亮的太阳光下。显影这样的一幅胶片时会发生什么呢？几乎所有的卤化银晶体都将变为黑色的金属银，结果得到的底片是全黑的。
其次再考虑，当我们显影一幅没有经过任何曝光的胶片时会出现什么情况。比如有时我们不能确定一卷胶片是否已经拍摄过，为安全起见，我们对其显影。如果该卷从未曝光，便会得到一整卷透明的底片--所有的卤化银晶体在显影时都被冲洗掉了，剩下的便只是透明的片基了。
显影质量的因素有显影液浓度、显影温度、显影时间等。在其他条件不变zhi的前提下，显影液浓度越大，显影速度越快。但如果显影液浓度过大，对图文基础的腐蚀性过强，容易造成网点缩小、残损、亮调小网点丢失以及使感光胶层减薄、强度下降，导致印刷着墨性能降低、耐印力下降。同时会腐蚀和破坏空白部位的氧化膜和封孔层，导致版面出现发白现象，使印版的亲水性和性变差。
蚀刻：蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。利用蚀刻液与铜层反应,蚀去线路板上不需要的铜,得到所要求的线路。蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类。
这被称作为“抗蚀层”。在蜡层中刻出图案，使底下的金属部分显露出来。制备好的金属材料被浸渍在盐酸或者肖酸溶液中，直至其暴露的区域被刻蚀到所需的深度。之后将抗蚀层清除，就可展现出蚀刻的成品样子。烫金或者发黑都可以被用于突出图案。金属蚀刻制品上的图案往往比传统雕刻更方便而代价更少。
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