Parylene裂解仪
Parylene用的真空气相沉积工艺（CVD技术）制备，由活性小分子在基材表面'生长'出完全敷形的聚合物薄膜涂层，它能涂敷到各种形状的表面，包括尖锐的棱边，号称'无孔不入'可深入裂缝里和内表面。这种真空状态下室温沉积制备的0.1-100微米薄膜涂层，厚度均匀、致密无、透明无应力、不含助剂、不损伤工件、有优异的电绝缘性和防护性，甚至被称为当今
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Parylene裂解仪
Parylene用的真空气相沉积工艺（CVD技术）制备，由活性小分子在基材表面'生长'出完全敷形的聚合物薄膜涂层，它能涂敷到各种形状的表面，包括尖锐的棱边，号称'无孔不入'可深入裂缝里和内表面。这种真空状态下室温沉积制备的0.1-100微米薄膜涂层，厚度均匀、致密无、透明无应力、不含助剂、不损伤工件、有优异的电绝缘性和防护性，甚至被称为当今世界的防潮、防霉（零级）、防腐、防盐雾的特殊防护涂层。ParyleneN粉是各类Parylene中具有较强的渗透能力，能够有效地在各种细缝或盲孔表面形成薄膜。Parylene涂层在具备以上优异防护性能基础上,尤其还具有良好的生物兼容性,生物稳定性，并有优异的自润滑性,涂层均匀可控性,以及好的物理机械性能。
1.一腔体，采用SUS304不锈钢舱体有效镀膜空间 ≧ 直径300mm x 高度350mm，腔体设有观景窗, 采用掀盖式腔盖并设有把手以便腔盖开闭。
2. 旋转平台，可承载重量: 20公斤,旋转速度: 0.5至10 rpm。
3. 油式泵浦，抽气速度 ≧ 200L/min ; 压力 ≦ 5*10-3Torr。
4. 控制系统，采用具PID功能之温控模块及高的精度温度传感器，系统可进行自动或半自动(温控/真空)操作,并可储存与选择Recipe 。
5. 附属冷凝机，温度 ≦ -90℃
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多源蒸发系统介绍
沈阳鹏程真空技术有限责任公司供应电阻热蒸发镀膜产品，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。
主要用途：
系统主要用来生长EL OEL分子有机电致发光器件薄膜的研究工作
系统组成:
该类设备为双室带手套箱结构的有机、无机、多源有机、无机气相分子沉积设备，采用直线式结构，由一个金属材料生长、氧化物生长室、一个有机材料生长室和一个手套箱组成，金属材料生长和氧化物生长室以及进样室/氧化物生长室之间通过空气锁联接，样品通过带远程手控盒功能的电动磁力耦合装置在两个生长室之间手动传递。可选手套箱。派瑞林涂层材料优势：派瑞林用的真空气相沉积工艺制备，由活性小分子在基材表面“生长”出完全敷形的聚合物薄膜涂层，具有其他涂层难以比拟的性能优势。
钙钛矿镀膜机的特点有哪些？
1、样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置。
2、设有烘烤加热功能，可在镀膜过程中加热样品，烘烤加热温度为≤180℃。
3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。
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