而它的电子的来源有二：高温金属产生的热电子，另一种电子的来源为中空阴极放电。(4)雷射加热：激光束可经由光学聚焦在蒸镀源上，产生局部瞬间高温使其逃离。zui早使用的是脉冲红宝雷射，而后发展出紫外线准分子雷射。紫外线的优点是每一光子的能量远比红外线高，因此准分子雷射的功率密度甚高，用以加热蒸镀的功能和电子束类似。常被用来披覆成份复杂的化合物，镀膜的甚佳.它和电子束加热或溅射的过程
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而它的电子的来源有二：高温金属产生的热电子，另一种电子的来源为中空阴极放电。(4)雷射加热：激光束可经由光学聚焦在蒸镀源上，产生局部瞬间高温使其逃离。zui早使用的是脉冲红宝雷射，而后发展出紫外线准分子雷射。紫外线的优点是每一光子的能量远比红外线高，因此准分子雷射的功率密度甚高，用以加热蒸镀的功能和电子束类似。常被用来披覆成份复杂的化合物，镀膜的甚佳.它和电子束加热或溅射的过程有基本上的差异，准分子雷射脱离的是微细的颗粒，后者则是以分子形式脱离。(5)电弧加热：阴极电弧沉积的优点为：①蒸镀速率快，可达每秒1.0微米；②基板不须加热；③可镀高温金属及陶瓷化合物；④镀膜密高且附着力佳。
主要工艺：目前，物理气相沉积（PVD）技术主要包括真空阴极弧物理蒸发、真空磁控离子溅射、离子镀以及增强溅射四种。①阴极弧物理蒸发（ARC）：真空阴极弧物理蒸发过程包括将高电流，低电压的电弧激发于靶材之上，并产生持续的金属离子。被离化的金属离子以60-100eV平均能量蒸发出来形成高度激发的离子束，在含有惰性气体或反应气体的真空环境下沉积在被镀工件表面。真空阴极弧物理蒸发靶材的离化率在90%左右，所以与真空磁控离子溅射相比，沉积薄膜具有更高的硬度和更好的结合力。
1.热镀纯锌镀层(Z)hot‐dip zinc coating
熔融池金属液体中的锌含量应不小于99%。
热镀纯锌工艺可以生成不同尺寸的锌花，锌花影响表面感官，但不影响耐蚀性。
镀锌厚度是怎么计算出来的呢？锌的密度是7.14 g/cm^3，折算成镀锌厚度与每平米重量的关系为：1μm≈7.14g/m2，比如单面锌量厚度是50 μm（微米），即单面镀锌重量为50×7.14=357 g/m^2。
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