残余气体分子撞击着真空室内的所有表面,包括正在生长着的膜层表面。在室温和10-4Pa压力下的空气环境中,形成单一分子层吸附所需的时间只有2.2s。可见,在蒸发镀膜过程中,如果要获得高纯度的膜层,必须使膜材原子或分子到达基片上的速率大于残余气体到达基片上的速率,只有这样才能制备出纯度好的膜层。这一点对于活性金属材料基片更为重要,因为这些金属材料的清洁表面的粘着系数均接近于1。在10-
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残余气体分子撞击着真空室内的所有表面,包括正在生长着的膜层表面。在室温和10-4Pa压力下的空气环境中,形成单一分子层吸附所需的时间只有2.2s。可见,在蒸发镀膜过程中,如果要获得高纯度的膜层,必须使膜材原子或分子到达基片上的速率大于残余气体到达基片上的速率,只有这样才能制备出纯度好的膜层。这一点对于活性金属材料基片更为重要,因为这些金属材料的清洁表面的粘着系数均接近于1。在10-2Pa~10-4Pa压力下蒸发时,膜材蒸汽分子与残余气体分子到达基片上的数量大致相等,这必将影响制备的膜层质量。 次数用完API KEY 超过次数限制
真空镀膜技术是真空应用技术的一个重要分支,它已广泛地应用于光学、电子学、能源开发,理化仪器、建筑机械、包装、民用制品、表面科学以及科学研究等领域中。真空镀膜所采用的方法主要有蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积镀以及分子束外延等。此外还有化学气相沉积法如果从真空镀膜的目的是为了改变物质表面的物理、化学性能的话,这一技术又是真空表面处理技术中的重要组成部分,一块光学玻璃或石英表面上镀一层或几层不同物质的薄膜后,即可成为高反射或无反射(即增透膜)或者作任何预期比例的反射或透射材料,也可以作成对某种波长的吸收,而对另一种波长的透射的滤色pian。 次数用完API KEY 超过次数限制
真空蒸镀工艺实例以塑料金属化为例,真空蒸镀工艺包括:镀前处理、镀膜及后处理。真空蒸镀的基本工艺过程如下:(1)镀前处理,包括清洗镀件和预处理。具体清洗方法有清洗剂清洗、化学溶剂清洗、超声波清洗和离子轰击清洗等。具体预处理有除静电,涂底漆等。(2)装炉,包括真空室清理及镀件挂具的清洗,蒸发源安装、调试、镀件褂卡。(3)抽真空,一般先粗抽至6.6Pa以上,更早打开扩散泵的前级维持真空泵,加热扩散泵,待预热足够后,打开高阀,用扩散泵抽至6×10-3Pa半底真空度。 次数用完API KEY 超过次数限制
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