ZF450型全自动热蒸发镀膜机
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——电阻器热蒸发镀膜供货商，我们为您提供下列信息内容。
选用3～8组蒸发源可适配金属材料、有机化合物蒸发。广泛运用于高等院校材料、物理学、有机化学、电子器件、电力能源等有关课程及其科研单位制取作用塑料薄膜、蒸镀电级等，非常合适OPV/钙钛矿/无机物太阳能薄膜充电电池、半导体材料、有机化学EL、OL
双室多源蒸发镀膜机供应
ZF450型全自动热蒸发镀膜机
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——电阻器热蒸发镀膜供货商，我们为您提供下列信息内容。
选用3～8组蒸发源可适配金属材料、有机化合物蒸发。广泛运用于高等院校材料、物理学、有机化学、电子器件、电力能源等有关课程及其科研单位制取作用塑料薄膜、蒸镀电级等，非常合适OPV/钙钛矿/无机物太阳能薄膜充电电池、半导体材料、有机化学EL、OLED显示信息科学研究与开发设计行业。广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域设备组成：该设备主要由沉积室、真空排气系统、真空测量、蒸发源、样品加热、电控系统、等部分组成。
1.前开关门真空内腔，便捷拿取基片、拆换蒸发舟、加上蒸发材料及其真空室的平时维护保养；
2.1200L/s分子泵做为主抽泵，真空限达到5×10-5Pa；
另可选择進口磁悬浮分子泵或是低温泵做为主抽泵，真空限达到 3×10-6Pa；
3. 组水冷器蒸发电级，可长期平稳工作中，适配金属材料材料与有机化学材料的蒸发源设计方案，
源间有避免交叉式环境污染挡板；
4. 真空蒸发开关电源，恒流电源/恒输出功率操纵。可保持一键启动和终止的自动控制系统作用；
5.较大120mm基片/15～25mm ITO/FTO夹层玻璃25片，可订制一体化高精密刻蚀掩膜板；
6.基片台自转，转速比0～25rpm持续可调式；
7. 衬底可挑选加温或水冷散热，源基距较大350mm；
8. 选用進口膜厚监控器仪在线监控和操纵蒸发速度、膜厚；
9. 可堆积金属材料（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金属材料、化学物质（MoO3, LiF等）
及有机化合物材料， 可扩展堆积单面膜、双层膜及混和膜；
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多源有机无机蒸发系统双室多源蒸发镀膜机供应
多源有机无机蒸发系统
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主要用途：
用于纳米级单层及多层金属膜、 半导体膜等新材料的制备。广泛应用 于大专院校的薄膜材料科研。
系统组成:
由真空室、蒸发源、样品台、 真空测量、膜厚测试、电控系统组成。
技术指标：
极限真空度5.0×10-5Pa，系统漏率：1×10-7PaL/S； 恢复真空时间：40分钟可达6.6×10 Pa
真空室：D形真空室，尺寸350× 380mm
样品台：尺寸为4英寸厚度3mm的平面样品；
电极：数量：4支水冷结构；直径Φ20㎜
样品基片:，基片在镀膜位置实现自转。基片的温度从室温至600℃
4套挡板系统：基片挡板与源挡板；靶挡板共有3套， 样品挡板（１套）
石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999
可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统。
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