2.2.7热阴频溅射（三极型溅射）hotcathodehighfrequencysputtering：借助于热阴极和阳极获得非自持气体放电，气体放电产生的离子，在靶表面负电位的作用下加速而轰击靶的溅射。
2.2.8离子束溅射ionbeamsputtering：利用特殊的离子源获得的离子束使靶的溅射。
2.2.9辉光放电清洗glowdischargecle
真空镀膜工厂
2.2.7热阴频溅射（三极型溅射）hotcathodehighfrequencysputtering：借助于热阴极和阳极获得非自持气体放电，气体放电产生的离子，在靶表面负电位的作用下加速而轰击靶的溅射。
2.2.8离子束溅射ionbeamsputtering：利用特殊的离子源获得的离子束使靶的溅射。
2.2.9辉光放电清洗glowdischargecleaning：利用辉光放电原理，使基片以及膜层表面经受气体放电轰击的清洗过程。
2.3物理气相沉积；PVDphysicalvapordeition：在真空状态下，镀膜材料经蒸发或溅射等物理方法气化，沉积到基片上的一种制取膜层的方法。
PVD镀膜技术在锁具行业基材上做表面改性装饰与效果。水电镀无法做到的，真空技术几乎都可以实现各种颜色效果，环保工艺。而且锁具加工真空镀膜技术加工在整体显得大气，让人类生活多姿多彩。
真空PVD镀膜技术在手机外壳/中框及配件
手机外壳与及中框、摄像头保护圈，槽，音量按键，电源开关键等装饰件在不锈钢基材上采用真空PVD镀膜技术，加强使用硬度和颜色多种选择。
真空镀膜是在真空技术基础上发展起來的新技术，它选用物理学或有机化学方式，消化吸收离子束、分子结构束、电子束、等离子技术束、频射和磁控等一系列新技术，为科研和具体生产制造出示塑料薄膜制取。简单点来说，在真空中挥发或磁控溅射金属、铝合金或化学物质以干固并堆积在涂敷物件(称之为板材、板材或底材)上的方式称之为真空涂敷。真空镀膜技术性一般分成两大类，即物理学液相堆积(PVD)技术性和有机化学液相堆积(有机化学液相堆积)技术性。
真空镀膜随着PVD镀膜技术应用的迅速推广，吸引了国内外们和相关企业积极研发，至今无论是PVD沉积技术、PVD的制备工艺，还是PVD设备配套装备与部件，都有了长足的进步。
在真空条件下加热工件，主要依赖辐射。由于辐射传热与温度的4次方成比例，所以在850℃以下辐射效果不高，工件加热速度很慢；其次，因为金属材料中的某些合金元素在低压条件下加热时有蒸发损失现象，会造成表面合金元素的贫乏，以致影响其淬火后的表面层性能。对流加热技术是指先将真空镀膜设备真空炉炉膛抽到一定真空度，然后通以0．1—0．2MPa的惰性（Ar、He）、中性（N2）或还原性（H2）气体，并在充分搅动条件下施行加热，与在单纯真空条件下比较，加热速度至少可提高一倍以上。
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