等离子抛光采用的抛光技术是一种完全不同于传统方法的新型抛光技术，此抛光技术是根据电化学原理与化学反应原理而研发设计的。其抛光技术不使用对环境有污染和损害生产者健康的化学物品，但它的抛光效果却能够达到传统方法很难达到的，抛光速度也是传统抛光方法望尘莫及的，生产成本远远传统抛光成本。
由于等离子抛光有这些特性存在，所以目前应用的非常广，并且有取代电解抛光
等离子抛光厂家
等离子抛光采用的抛光技术是一种完全不同于传统方法的新型抛光技术，此抛光技术是根据电化学原理与化学反应原理而研发设计的。其抛光技术不使用对环境有污染和损害生产者健康的化学物品，但它的抛光效果却能够达到传统方法很难达到的，抛光速度也是传统抛光方法望尘莫及的，生产成本远远传统抛光成本。
由于等离子抛光有这些特性存在，所以目前应用的非常广，并且有取代电解抛光的趋势。
等离子抛光过程简析
1、将待抛光工件浸入加热后的电解质水溶液中，并对其施加正极性电压。该电解液无公害且廉价低浓度,PH值为6.5左右，近乎中性，所施加的电压为直流电压，工件可以是不锈钢、铜、锌及其合金等导电材料。
2、在适当的工作条件下，工件表面会出现稳定的蒸气气体层。该气体层会把被处理表面与电解质水溶液隔开，从而导致表面与电解液蒸气之间产生强烈的等离子体化学和电化学反应，使被处理表面产生阴极氧化，同时又使阴极氧化层受到化学侵蚀，在氧化速度与侵蚀速度相等时出现抛光效果，表现为光洁度上升及反射率提高。当氧化层薄且又足以抵御侵蚀作用时，反射率出现值。
对工件的里面一样抛光光亮。这块运用这种等离子抛光主要作用在去除人工打磨纹路，少一次清洗程序，增加美观度，成品率高。由于手工开初和人工打磨精光的时间成本基本相同，结合等离子抛光节约一定的成本，主要效用为大大提，提高成品率。
等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-1.5纳米。
抛光工艺一般从冲压出完全成型产品开始，后续工序一般有镭射，电镀，喷油等。抛光一般采用手工抛光，或者是手工抛光和等离子抛光结合。手工抛光即手工打磨，靠产品和麻，线，布轮的摩擦作用。手工抛光工艺缺点明显。
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