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光催化设备,又称光催化氧化设备,常用于光降解及光化学危废处理。
光催化设备主要包含两个重要的部分,一是光源,二是光催化剂。其具体的作用机理是光源发出的光(通常为紫外光)照射到光催化剂(常为半导体材料,如二氧化钛等)上使电子发生跃迁,通过与吸附氧作用生成具有较强氧化性的活性氧,从而氧化清除表面有机物或者细菌(病毒
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光催化设备,又称光催化氧化设备,常用于光降解及光化学危废处理。
光催化设备主要包含两个重要的部分,一是光源,二是光催化剂。其具体的作用机理是光源发出的光(通常为紫外光)照射到光催化剂(常为半导体材料,如二氧化钛等)上使电子发生跃迁,通过与吸附氧作用生成具有较强氧化性的活性氧,从而氧化清除表面有机物或者细菌(病毒)。
UV光催化设备可适应于绝大部分高浓度,大气量,不同恶臭气体物质的脱臭净化处理,通过合理的模块配置可广泛应用于:炼油厂、橡胶厂、化工厂、制药厂、污水处理厂、垃圾中转站、污水泵房、空调等恶臭气体的脱臭灭菌净化处理。可每天24小时连续工作,运行稳定可靠。UV光催化设备无任何机械装置,无运动噪音,无需专人管理和日常维护,只需要作定期检查维护,维护和能耗成本低,风阻极低,可节约大量排风动力能耗,达到节能的目的。
这也是光解式废气净化装置的反应原理所在。所以,在设计制作的过程中需要根据实际情况包括处理气体的种类、浓度、风量,对高能UV灯管的布局及数量进行相应的调整,才能保证此设备发挥出应有的效果以达到检测要求。利用的高能UV紫外线光束照射恶臭气体,裂解恶臭气体如:甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、和,硫化物H2S、VOC类,苯、二的分子键。
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