光刻胶介绍
光刻胶介绍
光刻胶是一种对光线、温度、湿度十分敏感的材料，可以在光照后发生化学性质的改变，这是整个工艺的基础。
光刻胶有不同的类型，PMMA（PMGI）以及DNQ（酚醛树脂）等材料都可以做光刻胶。
目前光刻胶市场上的参与者多是来自于美国、日本、韩国等，包括 FUTURREX、陶氏化学、杜邦、富士胶片、信越化学、住友化学、LG化学
NR9 1500P光刻胶报价
光刻胶介绍
光刻胶介绍
光刻胶是一种对光线、温度、湿度十分敏感的材料，可以在光照后发生化学性质的改变，这是整个工艺的基础。
光刻胶有不同的类型，PMMA（PMGI）以及DNQ（酚醛树脂）等材料都可以做光刻胶。
目前光刻胶市场上的参与者多是来自于美国、日本、韩国等，包括 FUTURREX、陶氏化学、杜邦、富士胶片、信越化学、住友化学、LG化学等等，公司在光刻胶领域也缺少核心技术。
正负光刻胶
正负光刻胶
光刻胶分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。正胶的图像与掩模板的图像是一致的，故此叫正胶，利用这种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。
一般来说线宽的用正胶,线窄的用负胶!随着12寸技术节点生产线的兴建和多次曝光工艺的大量
