PVD镀膜（离子镀膜）技术的主要特点和优势：和真空蒸发镀膜真空溅射镀膜相比较，PVD离子镀膜具有如下优点：1．膜层与工件表面的结合力强，更加持久和2．离子的绕射性能好，能够镀形状复杂的工件3．膜层沉积速率快，生产效lv高4．可镀膜层种类广泛5．膜层性能稳定、安全性高（获得FDA认证，可植入人体）PVD是英文PhysicalVaporDepsition的缩写，中文意思是“物理气相
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PVD镀膜（离子镀膜）技术的主要特点和优势：和真空蒸发镀膜真空溅射镀膜相比较，PVD离子镀膜具有如下优点：1．膜层与工件表面的结合力强，更加持久和2．离子的绕射性能好，能够镀形状复杂的工件3．膜层沉积速率快，生产效lv高4．可镀膜层种类广泛5．膜层性能稳定、安全性高（获得FDA认证，可植入人体）PVD是英文PhysicalVaporDepsition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。PVD镀膜和PVD镀膜机：PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。
PVD镀膜膜层的厚度：PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm～1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。PVD镀膜能够镀出的膜层的颜色种类：PVD镀膜目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色，浅金黄色，咖啡色，古铜色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通过控制镀膜过程中的相关参数，可以控制镀出的颜色；镀膜结束后可以用相关的仪器对颜色进行测量，使颜色得以量化，以确定镀出的颜色是否满足要求。
但由于金属离化过程非常激烈，会产生较多的有害杂质颗粒，涂层表面较为粗糙。②磁控离子溅射（SPUTTERING）：真空磁控离子溅射过程中，ya离子被被加速打在加有负电压的阴极（靶材）上。离子与阴极的碰撞使得靶材被溅射出带有平均能量4-6eV的金属离子。这些金属离子沉积在放于靶前方的被镀工件上，形成涂层薄膜。由于金属离子能量较低，涂层的结合力与硬度也相应较真空阴极弧物理蒸发方式差一些，但由于其表面质量优异被广泛应用于有表面功能性和装饰性的涂层领域中。
在锌液中添加锌镍合金可有效地降低锌和铁原子在ζ相中的扩散速度，因而可以控制浸镀层厚度的增长，当锌液中Ni含量为0.06%时，Ni含量可达0.8%，加入Ni后厚度增长明显得到控制，因而可有效地控制浸镀层厚度的增长，并能改善锌液的流动性能。因此，使用锌镍合金进行热浸镀锌的镀层厚度更加均匀，表面更光亮，锌花少。
总之，热镀锌后带钢表面缺陷情况较复杂，产生的原因也较多，解决办法是多方面的，需要做大量艰若细致的工作，使热镀技木提高一步。
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