湖北丰热科技有限公司（原武汉离子热处理研究所），制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业；是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉，并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。
辉光离子氮化作为七十年代兴起的一种新型渗氮方法与一般的气体渗氮相比，辉光离子渗氮的特点有：渗氮速度较快，可适当缩短渗氮周期，离子氮化时间短，能缩短到气体氮化时间的1/3～2/3。射频磁控溅射气体
离子氮化
湖北丰热科技有限公司（原武汉离子热处理研究所），制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业；是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉，并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。
辉光离子氮化作为七十年代兴起的一种新型渗氮方法与一般的气体渗氮相比，辉光离子渗氮的特点有：渗氮速度较快，可适当缩短渗氮周期，离子氮化时间短，能缩短到气体氮化时间的1/3～2/3。射频磁控溅射气体放电时，由于射频靶电源输出交变高频正弦电压波形，致使电子碰撞工作气体的几率大为增多，工作气体离化率高，等离子阻抗低，射频磁控溅射膜层沉积速率为二极射频溅射的数倍。渗氮层脆性小，离子氮化表面形成的白层很薄，甚至没有，另外引起的变形小，特别适宜于形状复杂的精密零件。
射频磁控溅射气体放电时，由于射频靶电源输出交变高频正弦电压波形，致使电子碰撞工作气体的几率大为增多，工作气体离化率高，等离子阻抗低，射频磁控溅射膜层沉积速率为二极射频溅射的数倍。实现了辉光离子渗氮炉真正的全自动控制，即用户在使用辉光离子渗氮炉时，只需在触摸屏上点击启动键，所有的操作步骤会由程序自动控制。辉光放电的特征是电流强度较小（约几毫安），温度不高，故电管内有特殊的亮区和暗区，呈现瑰丽的发光现象。 。
经过近20年的发展，低气压低温等离子体已取得了很大进展。但由于其运行需抽真空、设备投资大、操作复杂、不适于工业化连续生产，限制了它的广泛应用。低气压下的辉光放电虽然可以处理这些材料，但存在成本、处理效率等问题，目前无法规模化应用于纺织品的表面处理。旗下武汉离子渗氮研究所自1999年成立以来，即选择了，辉光离子渗氮炉作为主营产品，迄今已生产销售1200多台套各类辉光离子渗氮炉供国内外客户使用。长期以来人们一直在努力实现大气压下的辉光放电(APGD)。
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