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光催化设备，又称光催化氧化设备，常用于光降解及光化学危废处理。
光催化设备主要包含两个重要的部分，一是光源，二是光催化剂。其具体的作用机理是光源发出的光（通常为紫外光）照射到光催化剂（常为半导体材料，如二氧化钛等）上使电子发生跃迁，通过与吸附氧作用生成具有较强氧化性的活性氧，从而氧化清除表面有机物或者细菌（病毒
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光催化设备，又称光催化氧化设备，常用于光降解及光化学危废处理。
光催化设备主要包含两个重要的部分，一是光源，二是光催化剂。其具体的作用机理是光源发出的光（通常为紫外光）照射到光催化剂（常为半导体材料，如二氧化钛等）上使电子发生跃迁，通过与吸附氧作用生成具有较强氧化性的活性氧，从而氧化清除表面有机物或者细菌（病毒）。
光催化氧化净化原理：
①紫外线灯
利用的高能高臭氧UV紫外线光束照射废气，裂解工业废气。工业废气利用排风设备输入到本净化设备后，净化设备运用高能UV紫外线光束及臭氧对工业废气进行协同分解氧化反应，使工业废气物质降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通过管道排出。
光催化氧化
废气进入光催化氧化净化装置，去除废气中甲醛、类、非总烃等气体。
然后废气会被氧化，因为设备中的臭氧可以有效的氧化空气中的有机废气和气味较浓的气体。再然后被处理之后的废气有来到了光催化区，在这里通过高能紫外线照射对气体中分子结构进行裂解，生产对大气无污染的大气成分。后被处理过后无污染的废气会通过引风机进入烟冲，从而排出大气。如果废气中有特定污染成分，可在设备前设置一个洗涤塔，进行一级处理达到辅助效果。
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