PVD主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类。真空蒸镀在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料（或称膜料）并使之气化，粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。溅射镀膜利用气体放电产生气体电离，其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶体，击出阴极靶体原子或分子，飞向被镀基体表面沉积成薄膜。离子镀膜在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质离子化，在气体离子或蒸发物质离子轰击作用下，把蒸发物
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PVD主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类。真空蒸镀在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料（或称膜料）并使之气化，粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。溅射镀膜利用气体放电产生气体电离，其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶体，击出阴极靶体原子或分子，飞向被镀基体表面沉积成薄膜。离子镀膜在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质离子化，在气体离子或蒸发物质离子轰击作用下，把蒸发物质或其反应物蒸镀在工件上。
清洗是通过化学或(及)物理的方法将工件上的油污、锈迹、灰尘等去除干净，确保工件获得较好的涂层结合力和生产的顺利进行。清洗是PVD涂层前必不可少的一道工序，也是PVD涂层生产中zui重要的工艺，清洗出了问题，涂层生产不得不延迟、涂层过程可能中断、或涂层结合力出现问题而导致客户投诉和赔偿，尤其是在涂层设备的技术能力不高的情况下，清洗出了问题，更容易发生上述风险。有四个因素影响着清洗的质量，分别为：清洗时间、化学药剂、机械作用以及清洗液温度，这四个因素之间也相互影响，一个因素的减弱，可以通过增强另外三个因素的作用来弥补，反之亦然。
有四个因素影响着清洗的质量，分别为：清洗时间、化学药剂、机械作用以及清洗液温度，这四个因素之间也相互影响，一个因素的减弱，可以通过增强另外三个因素的作用来弥补，反之亦然。在这四个因素中，清洗时间的zui小化也是追求的目标，这样可以提高清洗的效率．缩短生产时间和交货周期。清洗主要方法和步骤应包括：化学药剂喷淋、化学药剂浸泡与超声波清洗、漂洗、烘干。1)化学药剂喷淋喷淋对于清洗来说非常有效，它能够清除掉工件上绝大部分油污及污染物。尤其对有孔工件来说，更加有效，喷淋到工件上的化学药剂会流入孔中或化学药剂被直接喷进孔中对孔内壁进行冲洗。
由于该工艺过程具有炸性质，并可形成液化金属的液滴，因此可能导致涂层表面粗糙。引入反应气体从而形成化合物2)溅射（电离度低）：溅射是用高能粒子轰击靶材而使原子从固体靶材上弹出的过程。在薄膜涂层中，这是通过加速朝向固体靶材的ya离子，使其在靶材上击出金属原子并聚集在工件上来实现的。通过在真空腔室中引入气体而形成如金属氮化物等化合物。国内外技术对比分析：①整体差距：调查资料显示：目前，国外PVD涂层行业的生产设备一般技术力量雄厚，工艺装备精良，检测手段，并拥有的大吨位及配套生产设备，具有较强的生产能力。
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