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水基清洗剂一改往常的弊端早期的水基清洗剂主要是用一些碱性较强的无机碱或者无机盐类物质，因为配方单一，碱性强从而导致清洗过程有很多弊端，清洗效果也是大打折扣。现在发展的水基清洗剂一改往常的弊端，添加了表面活性剂、络合剂、缓蚀剂、稳定剂、增溶剂及多种效果的成分，根据所清洗的目的及基材的不同，合理调试不同的配方。例如对
天津防锈清洗剂批发
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水基清洗剂一改往常的弊端
早期的水基清洗剂主要是用一些碱性较强的无机碱或者无机盐类物质，因为配方单一，碱性强从而导致清洗过程有很多弊端，清洗效果也是大打折扣。现在发展的水基清洗剂一改往常的弊端，添加了表面活性剂、络合剂、缓蚀剂、稳定剂、增溶剂及多种效果的成分，根据所清洗的目的及基材的不同，合理调试不同的配方。例如对于电镀前的除油处理，就采取使用聚醚、脂肪醇聚氧乙烯醚lliousuan钠等进行复配，基本对基材没有腐蚀性，使用时无需加热，泡沫少，清洗效果好，用量少，成本低，操作简单，无毒，对环境不会造成危害，人工清洗机械清洗均可，清洗后处理简单。
清洗设备金属表面污渍建议使用弱碱性水基清洗剂
清洗设备金属表面污渍建议使用弱碱性水基清洗剂，通常为了保护设备表面，防止腐蚀金属会喷有防锈锈，保护漆等，酸性清洗剂会对漆面，金属产生腐蚀，适合清洗一些碱性污垢如：金属表面锈迹，氧化物等，所以不建议使用。弱碱性水基清洗剂是指PH值小于12的清洗剂，其主要是以表面活性剂KOH、NAOH、碳酸氢钠制成的，主要通过皂化、乳化、浸透湿润作用去除污渍，对工业油污清洗力较强。使用时可用浸泡擦拭的方法，将清洗剂按商家提供的配比比例与水混合，拿抹布蘸取擦拭即可。
电力行业清洗、清洁领域里,主要用于:半导体芯片的高清洁度清洗
对于电力行业清洗、清洁领域里，主要用于：对于火力发电站来说，它主要由锅炉、汽轮机和发电机组成，所以我们清洗的部分大致有：水、蒸汽循环系统、燃烧气系统、冷却循环系统等等；对于原子能发电站来说，则主要清洗原子能反应堆；此外还有电力电力通讯设备的带电清洗，我们ITW工业清洗剂也同样适合。对于半导体行业来说，主要用于：半导体晶片的高清洁度清洗。在清洗钟、表、首饰等领域时，主要用来清除：油泥、灰尘、氧化层、抛光膏等。
溶剂清洗剂技术国内外均成熟
溶剂清洗剂：主要包括卤代烃类（氯代烃、代烃、氟代烃）、石油类、醇类、醚类、二醇酯类、硅氧烷类等。该类清洗剂技术国内外均成熟，大多具有良好的清洗效果，但溶剂类清洗剂存在价格高、毒性高、产生温室效应、破坏臭氧层、有些还操作不安全等缺点。碱性或酸性清洗剂：主要成分是、碳酸钠、硅酸钠或磷酸钠等，通常应用于清洗黑色金属表面轻度油污和无机盐等污垢。
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