化学气相沉积设备厂家欢迎来电「多图」

化学气相沉积产品概述

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——生产、销售化学气相沉积，我们公司坚持用户为上帝，想用户之所想，急用户之所急，以诚为本，讲求信誉，以产品求发展，以质量求生存，我们热诚地欢迎各位同仁合作共创。

1、适用范围：适合于各单位实验室、高等院校实验室、教学等的项目科研、产品中试之用。

2、产品优点及特点：应用于半导体薄膜、硬质涂层等薄膜制备，兼等离子体清洗、等离子体刻蚀。

3、主要用途：主要用来制作SiO2、Si3N4、非晶Si：H、多晶Si、SiC、W、Ti-Si、GaAs、GaSb等介电、半导体及金属膜。

等离子体化学气相沉积

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——脉冲激光沉积供应商，我们为您带来以下信息。

等离子体化学气相沉积简称PCVD，是一种用等离子体激发反应气体,促进在基体表面或近表面空间进行化学反应,生成固态膜的技术。等离子体化学气相沉积技术的基本原理是在高频或直流电场作用下，源气体电离形成等离子体，利用低温等离子体作为能量源，通入适量的反应气体，利用等离子体放电，使反应气体激发并实现化学气相沉积的技术。化学气相沉积的特点化学气相沉积法之所以得到发展，是和它本身的特点分不开的，其特点如下。