PVD基本方法：真空蒸发、溅射、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀），以下介绍几种常用的方法。电子束蒸发电子束蒸发是利用聚焦成束的电子束来加热蒸发源，使其蒸发并沉积在基片表面而形成薄膜。特征：真空环境；蒸发源材料需加热熔化；基底材料也在较高温度中；用磁场控制蒸发的气体，从而控制生成镀膜的厚度。溅射沉积溅射是与气体辉光放电相联
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PVD基本方法：真空蒸发、溅射、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀），以下介绍几种常用的方法。电子束蒸发电子束蒸发是利用聚焦成束的电子束来加热蒸发源，使其蒸发并沉积在基片表面而形成薄膜。特征：真空环境；蒸发源材料需加热熔化；基底材料也在较高温度中；用磁场控制蒸发的气体，从而控制生成镀膜的厚度。溅射沉积溅射是与气体辉光放电相联系的一种薄膜沉积技术。溅射的方法很多，有直流溅射、RF溅射和反应溅射等
PVD镀膜（离子镀膜）技术的主要特点和优势：和真空蒸发镀膜真空溅射镀膜相比较，PVD离子镀膜具有如下优点：1．膜层与工件表面的结合力强，更加持久和2．离子的绕射性能好，能够镀形状复杂的工件3．膜层沉积速率快，生产效lv高4．可镀膜层种类广泛5．膜层性能稳定、安全性高（获得FDA认证，可植入人体）PVD是英文PhysicalVaporDepsition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。PVD镀膜和PVD镀膜机：PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。
同时，PVD涂层技术对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向。其PVD涂层技术质量指标为：PVD涂层的应用：（1）主要应用：PVD涂层一般分为装饰性镀膜、工具模具硬质镀膜以及各种功能膜层。这里主要分为功能性涂层和装饰性涂层两大类。①功能性PVD涂层：主要是为了提高工件（如刀具或零部件）的表面硬度和度，减低表面的摩擦系数，提高工件的使用寿命及综合性能，减少每件产品的制造成本，例如高速钢立铣刀表面的TiN涂层。
熔融池中金属液体含有大约8%～11%硅（Si），其余成分为铝。
铝硅镀层会在钢板表面形成明显的铝-铁-硅合金层，其特点是优异的耐高温性能，可以应用在一些高温加工和高温工作环境中。
镀层厚度和重量的关系：镀层厚度1μm≈3g/m2。
注3：热镀铝硅镀层钢板及钢带，是贸易中提及的“镀铝板”的一个种类。在欧标中镀纯铝是需要单独协议供货的，而在JIS标准中则根据耐腐蚀和耐高温等不同的应用做了分类。
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