颜料超精细研磨必备设备颜料超精细研磨必备设备纳米砂磨机
颜料的超细机械粉碎法：颜料超细化一般使用的是超细粉碎法（也叫超细研磨法）。这种方法主要是通过对有机颜料的粒子进行超精细的研磨、剪切，使颜料的粒子均质化的分布，要想有机颜料在水中有良好的稳定性，必须要具备三个条件就是：润湿、稳定以及固液分离。
一、润湿---顾名思义就是将颜料完全浸润，去除粒子聚集体中的空气和杂质。
二、分离
皮带砂磨机
颜料超精细研磨必备设备
颜料超精细研磨必备设备纳米砂磨机
颜料的超细机械粉碎法：颜料超细化一般使用的是超细粉碎法（也叫超细研磨法）。这种方法主要是通过对有机颜料的粒子进行超精细的研磨、剪切，使颜料的粒子均质化的分布，要想有机颜料在水中有良好的稳定性，必须要具备三个条件就是：润湿、稳定以及固液分离。
一、润湿---顾名思义就是将颜料完全浸润，去除粒子聚集体中的空气和杂质。
二、分离---是指将抱团的物料解聚成均匀较小的粒子后的一个重要步骤，而非将颜料晶体研磨成更小粒度的粒子。要想分离的效果好，就要提高纳米砂磨机(颜料砂磨机)的剪切力。一般说来，剪切力越高，颜料分离的速度越快，分离效果越好。常用的颜料分离机械有纳米砂磨机(颜料砂磨机)、球磨机和高速分散机等。超细颜料的稳定化是影响整个粉碎分散过程的关键。
颜料的超精细研磨必须选择适当的分散介质和分离设备，超细粉碎法简单可行，只要具备常规的研磨分散设备，如纳米砂磨机（颜料砂磨机）球磨机、超微粉碎机和适当的分散剂，即可制得在水介质中均匀分散的有机颜料粒子。我公司生产的纳米砂磨机（颜料砂磨机）能将颜料超精细研磨细度达到数十纳米。
研磨机和抛光机相应搭配的研磨耗材
研磨机和抛光机相应搭配的研磨耗材
对于研磨机和抛光机相信不用为大家详细介绍了，前面已经为两者的区别进行了介绍。研磨机和抛光机两者设备，一种用于研磨，一种用于抛光。这两者主要功能不同也决定搭配的耗材有区别，下面简单了解研磨机和抛光机搭配的耗材有哪些？
在东研，研磨机相应的搭配耗材有研磨盘和研磨液，研磨盘有研磨砂盘、合成铜盘和合成铁盘；而研磨液有钻石研磨液多种型号。而抛光机的搭配耗材是抛光皮和抛光液，东研为抛光机设备提供相应的抛光皮有进口黄色抛光皮、黑色抛光皮和白色抛光皮。而抛光液多适用于各种金属材质，如铝材、不锈钢、铜材以及银等。
单面研磨机工作原理的三步走
单面研磨机工作原理的三步走
研磨机是用涂上或嵌入磨料的研具对工件表面进行研磨的磨床。主要用于研磨工件中的平面、内外圆柱面、圆锥面、球面、螺纹面和其他型面。研磨机的主要类型有圆盘式研磨机、转轴式研磨机和各种研磨机。研磨机控制系统以PLC为控制核心，文本显示器为人机对话界面的控制方式。人机对话界面可以就设备维护、运行、故障等信息与人对话；操作界面直观方便、程序控制、操作简单。安全考虑，非正常状态的误操作无效。实时监控，故障、错误报警，维护方便。
1.单面研磨机是用涂上或嵌入磨料的研具对工件表面进行研磨的磨床。主要用于研磨工件中的平面、内外圆柱面、圆锥面、球面、螺纹面和其他型面。
2.将被磨、抛材料放于研磨盘上，研磨盘逆时钟转动，修正轮带动工件自转，重力加压的方式对工件施压，工件与研磨盘作相对运转磨擦，来达到研磨抛光目的。
3.单面研磨机的研磨盘修整机构采用油压悬浮导轨前后往复运动，金刚石修面刀给研磨盘的研磨面进行精密修整，得到理想的平面效果。
时间对平面抛光研磨机的抛光液PH的影响分析
时间对平面抛光研磨机的抛光液PH的影响分析
抛光液PH值是抛光元件表面粗糙度的重要影响因素，他是抛光元件化学抛光的重要组成部分。事实证明，当抛光压力、温度等外界因素相匹配时，平面抛光研磨机抛光时的PH值应控制在11.25左右，这时候化学抛光和机械抛光的作用相平衡，抛光效果!
抛光液中PH值参数是衡量一种液体性能是否稳定的重要因素。很多抛光液使用者并没有清楚的意识到这一点，他们往往对抛光液内的粒度分布，粒径大小，均匀性，配比等感兴趣，而忽略了一个重要的因素-PH值对整个液体状的的影响。
在化学性质的液体中，PH值的大小影响着液体性能的稳定。抛光液一般在微酸或者微碱的时候，对平面抛光研磨机工件的抛光效果，所能达到的表面粗超度。当PH值偏碱性时，粗超度变大。所以在配置这种液体的时候，我们不能忽略这一点，一定要反复试验，取得一个稳定值。
抛光液的PH值是变化的。这是因为抛光液会随着时间的变化而变化。由于某些工件在抛光时产生水解作用,在实际抛光过程中抛光液的pH值会随抛光时间不断变化。在每次添加抛光液后,pH值的变化为剧烈。因此一开始先每隔15s测量一次,之后每隔1min测量一次,从而可得出不同初始pH值的抛光液在抛光过程中pH值的变化规律。在对不含有碱金属氧化物,不会与水产生水解反应,在平面抛光研磨机的抛光过程中抛光液的pH值基本保持不变,所以其抛光方法也不同。
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