PLD450型脉冲激光镀膜介绍
以下是沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您一起分享的内容,沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产脉冲激光沉积,欢迎新老客户莅临。
技术指标:
极限真空度:≤6.7×10 Pa
恢复真空时间:从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min
系统漏率:6. 7×10-7Pa.L/S;
真空室:Ф450球型真空
激光脉冲沉积装置报价
PLD450型脉冲激光镀膜介绍
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技术指标:
极限真空度:≤6.7×10 Pa
恢复真空时间:从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min
系统漏率:6. 7×10-7Pa.L/S;
真空室:Ф450球型真空室 ,
基片尺寸:可放置4″可实现公转换靶位描等基片加热可连续回转,转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离300-350mm可调。
二维扫描机械平台,执行两自由度扫描,控制的内容主要有公转换靶、靶自转、样品自转、样品控温、激光束扫,
质量流量控制器1路
烘烤温度:150℃数显自动热偶控温(高温炉盘,数显自动热偶控温可加热到800℃)
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