电子束结构介绍
粒子增速器的结构可以与显像管类比。显像管中的电子枪对应于增速器的电子枪或离子源，显像管中加速电子用的高压电极对应于增速器中的高压加速电极及加速腔。显像管中控制电子运动的电偏转板与聚焦电子的聚焦线圈，对应于增速器中控制粒子运动轨道和聚焦粒子束流的多种电磁部件，如导向磁铁、聚焦磁铁、多极校正磁铁等。对粒子增速器的粒子运行管道来说，为了减少粒子在运动中与残余气体
电子束镀膜机公司
电子束结构介绍
粒子增速器的结构可以与显像管类比。显像管中的电子枪对应于增速器的电子枪或离子源，显像管中加速电子用的高压电极对应于增速器中的高压加速电极及加速腔。显像管中控制电子运动的电偏转板与聚焦电子的聚焦线圈，对应于增速器中控制粒子运动轨道和聚焦粒子束流的多种电磁部件，如导向磁铁、聚焦磁铁、多极校正磁铁等。对粒子增速器的粒子运行管道来说，为了减少粒子在运动中与残余气体碰撞而造成粒子的丢失和束流性能变坏，所要求的真空度比显像管要高数千到数万倍。蒸发镀膜和溅射镀以及离子镀都是物理气相沉积（PVD）的工艺方法。随着科学技术的不断发展，根据科学家对粒子能量和流强的不同要求，陆续产生了不同原理、不同结构的多种增速器。
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电子束镀膜原理
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电子束蒸镀是利用加速电子轰击镀膜材料，电子的动能转换成热能使镀膜材料加热蒸发，并成膜。电子枪有直射式、环型和E型之分。电子束加热蒸镀的特点是能获得极高的能量密度，可达109w/cm2，加热温度可达3000～6000℃，可以蒸发难熔金属或化合物;被蒸发材料置于水冷的坩埚中，可避免坩埚材料的污染，制备高纯薄膜；另外，由于蒸发物加热面积小，因而热辐射损失减少，热效率较高。但结构较复杂，且对较多的化合物，由于电子的轰击有可能分解，故不适合多数化合物的蒸镀。产品特点/用途：设备一体化设计，占地面积小，性能稳定，，使用维护成本低。
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