微弧氧化技术的原理及特点
微弧氧化技术是近十多年来国际国内兴起的高新技术，是材料表面改性的一种重要方法。微弧氧化采用较高的工作电压，将工作区域由普通阳极氧化的法拉第区域引入到高压放电区域。微弧氧化技术是指在普通阳极氧化的基础上，利用电化学手段，通过等离子体微孤的高温高压作用，在阳极上发生的反应，从而使铝（镁、钛、锆等）合金表面发生相和结构的变化，改善合金的
微弧氧化技术原理
微弧氧化技术的原理及特点
微弧氧化技术是近十多年来国际国内兴起的高新技术，是材料表面改性的一种重要方法。微弧氧化采用较高的工作电压，将工作区域由普通阳极氧化的法拉第区域引入到高压放电区域。微弧氧化技术是指在普通阳极氧化的基础上，利用电化学手段，通过等离子体微孤的高温高压作用，在阳极上发生的反应，从而使铝（镁、钛、锆等）合金表面发生相和结构的变化，改善合金的、耐蚀性能和电特性、抗高温冲击特性。微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化技术
微弧氧化处理后的轻金属基表面陶瓷膜层具有硬度高，耐蚀性强，绝缘性好，膜层与基底金属结合力强，并具有很好的和耐热冲击等性能。微弧氧化表面处理、微弧氧化技术、但镁合金活泼的化学和电化学特性使其极易产生腐蚀，严重制约了镁合金的应用。微弧氧化采用低电压方式，配置特质的电解液，通过瞬时的等离子光化学反应，高温离子尚未破坏到母材表层的情况下，母材外表形成一层硬质氧化维护膜，从而达到对母材表面处理的效果。微弧氧化电源、微弧氧化技术、微弧氧化生产线
微弧氧化时间对表莫粗糙度的影响
微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度随着氧化时间的延长近似呈线性增长。这是由于氧化膜的表面粗糙度与膜层的厚度有直接关系，而膜层的增厚过程是在极高的能量条件下陶瓷膜的重复击穿过程。可以预见在未来的轻金属领域，微弧氧化工艺也将会迎来大规模应用的时代。在氧化初期，作用在膜层上的能量较低，产生的熔融物颗粒较少，膜层的表面粗糙度较低；随着时间的延长，膜层表面的能量密度逐渐增大，熔融的氧化产物增多，并通过微孔喷射到表面。在电解液液淬作用下，氧化物冷却凝固，并发生多次击穿。在这种熔融、凝固、再熔融、再凝固的过程中，产生的氧化物颗粒黏附在陶瓷层表面的数量增多，从而增大了膜层表面的粗糙度。另外，在成膜过程中同时存在氧化膜的溶解过程，因此，若时间足够长，膜层在溶解过程中其表面粗糙度也会出现小幅度的下降。
微弧氧化采用较高的工作电压，将工作区域由普通阳极氧化的法拉第区域引入到高压放电区域。微弧氧化的陶瓷膜较阳极氧化膜在防腐蚀、性、电绝缘性和装饰性等方面都有明显的改善和提高，但并不意味着微弧氧化就属于市场的专有产物。采用该技术可在铝、镁合金表面生长一层致密的陶瓷膜,这层保护膜 与基体结合力强、尺寸变化小,损、耐腐蚀、耐热冲击及绝缘性能得到极大改善,在航空、航天、机械、电子、装饰等领域有广泛应用前景。微弧氧化技术、微弧氧化电源、微弧氧化生产线
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