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氧化镁(MgO)晶体基片-品类,合肥合瑞达材质

由于氧化镁(MgO)单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小,且能得到的基片(直径2"及更大),所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。具有很大的现实及潜在应用市场。单晶氧化镁是指MgO含量在99.95%以上,具有极强的耐高低温(高温2500℃,低温-270℃)抗腐蚀性、绝缘性和良好的导热性和光学性能、无
氧化镁(MgO)晶体基片










由于氧化镁(MgO)单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小,且能得到的基片(直径2"及更大),所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。具有很大的现实及潜在应用市场。单晶氧化镁是指MgO含量在99.95%以上,具有极强的耐高低温(高温2500℃,低温-270℃)抗腐蚀性、绝缘性和良好的导热性和光学性能、无色透明的晶体。









氧化镁(MgO)单晶是指MgO含量在99.95%以上,具有极强的耐高低温(高温2500℃,低温-270℃)抗腐蚀性、绝缘性和良好的导热性和光学性能、无色透明的晶体。氧化镁(MgO)单晶广泛用于航空、航天、国1防通讯、医1疗器械、光学仪器、等离子电视机保护膜蒸发源等领域。在等离子显示屏PDP中更是理想的电板保护膜材料是决定PDP寿命的主要因素,同时对PDP的工作性能(亮度和光效记忆容量着火电压等)有较好影响。













随着科学技术的不断进步,尤其是光电产业和无线通讯的发展,氧化镁(MgO)单晶的需要量越来越大,发展前景非常广阔。在各领域应用中,氧化镁(MgO)单晶的尺寸一般要求在5 X 5 X 5mm-100 X 100 X IOOmm之间,甚至更大。目前生产氧化镁(MgO)晶体的主流技术是电弧炉熔融法。主要通过高温电弧作热源在原料中心形成熔体,在加热过程停止后熔体经自然冷却得到晶体。传统的电弧炉的结构较为简单,炉壳是由耐火砖与钢壳构成,电极的功率和位置控制主要是靠经验手动操作。











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