将纳米氮化钛添加到TiN/Al2O3复相纳米陶瓷中，通过各种方法（如机械混合法）等将其混合均匀，得到的这种含有纳米氮化钛颗粒的陶瓷材料内部便形成导电网络。这种材料可作为电子元件应用于半导体工业中。（6）在镁碳砖中添加一定量的TiN，能够使镁碳砖的抗渣侵蚀性得到很大程度的提高。（7）氮化钛是一种优良的结构材料，可用于喷汽推进器以及火箭等。在轴承和密封环领域也多用氮化钛合金，凸显了氮化
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将纳米氮化钛添加到TiN/Al2O3复相纳米陶瓷中，通过各种方法（如机械混合法）等将其混合均匀，得到的这种含有纳米氮化钛颗粒的陶瓷材料内部便形成导电网络。这种材料可作为电子元件应用于半导体工业中。
（6）在镁碳砖中添加一定量的TiN，能够使镁碳砖的抗渣侵蚀性得到很大程度的提高。
（7）氮化钛是一种优良的结构材料，可用于喷汽推进器以及火箭等。在轴承和密封环领域也多用氮化钛合金，凸显了氮化钛优异的应用效果。 次数用完API KEY 超过次数限制
因此，如果要防止蒸发粒子的大量散射，在真空蒸发镀膜设备中，真空镀膜室的起始真空度必须高于10-2Pa。由于残余气体在蒸镀过程中对膜层的影响很大，因此分析真空室内残余气体的来源，借以消除残余气体对薄膜质量的影响是重要的。真空室中残余气体分子的来源主要是真空镀膜室内表面上的解吸放气、蒸发源释放的气体、抽气系统的返流以及设备的漏气等原因所造成的。若镀膜设备的结构设计及制造良好，则真空抽气系统的返流及设备的漏气并不会造成严重的影响。 次数用完API KEY 超过次数限制
真空镀膜一种通过物理方法生产薄膜材料的技术。真空室中材料的原子与热源隔离，并撞击要镀覆的物体表面。这项技术*首先用于生产光学透镜，例如船用望远镜透镜。后来扩展到其他功能膜，例如记录铝电镀，装饰涂层和材料表面改性。例如，表壳镀有仿金，然后对机床进行了涂层处理以改变加工硬度。真空镀膜主要使用辉光放电在目标表面击中ya（Ar）离zi。靶的原子被喷射并沉积在基板表面上以形成薄膜。溅射膜的性质和均匀性优于蒸发膜，但是涂布速度比蒸发膜慢得多。 次数用完API KEY 超过次数限制
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