不同应用时输出镜有不同透过率的要求，因此必须采用光学镀膜方法。对于CO2激光灯中红外线波段，常用的镀膜材料有氟化钇、氟化镨、锗等；对于YAG激光灯近红外波段或可见光波段，常用的镀膜材料有硫化锌、氟化镁、二氧化钛、氧化锆等。除了高反膜、增透膜之外，还可以镀对某波长增反射、对另一波长增透射的特殊膜，如激光倍频技术中的分光膜等。光学镀膜基本原理光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的
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不同应用时输出镜有不同透过率的要求，因此必须采用光学镀膜方法。对于CO2激光灯中红外线波段，常用的镀膜材料有氟化钇、氟化镨、锗等；对于YAG激光灯近红外波段或可见光波段，常用的镀膜材料有硫化锌、氟化镁、二氧化钛、氧化锆等。除了高反膜、增透膜之外，还可以镀对某波长增反射、对另一波长增透射的特殊膜，如激光倍频技术中的分光膜等。光学镀膜基本原理光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜，一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率，以满足不同的需要。 次数用完API KEY 超过次数限制
PVD涂层（离子涂层）技术的具体原理是在真空条件下使用低压，大电流电弧放电技术，利用气体放电使目标材料蒸发并使气化的物质和气体电离，并利用电场加速功能，将蒸发的物质及其反应产物沉积在工件上。PVD涂膜层的特性，采用PVD涂膜技术镀膜的膜层具有高硬度，高性（摩擦因数），良好的耐腐蚀性和化学稳定性的特点，并且该膜具有更长的寿命。同时，薄膜可以大大改善工件的外观和装饰性能。可通过PVD涂层电镀的薄膜类型，PVD涂层技术是一种环保的表面处理方法，可以真正获得微米级涂层而无污染。 次数用完API KEY 超过次数限制
因此需要合理设计镀膜设备的抽气系统，保证膜材蒸汽分子到达基片表面的速率高于残余气体分子到达的速率，以减少残余气体分子对膜层的撞击和污染，提高膜层的纯度。此外，在10-4Pa时真空室内残余气体的主要组分为水蒸气(约占90%以上)，水气与金属膜层或蒸发源均会发生化学反应，生成氧化物而释放出氢气。因此，为了减少残余气体中的水分，可以提高真空室内的温度，使水分解，也是提高膜层质量的一种有效办法。还应注意蒸发源在高温下的放气。在蒸发源通电加热之前，可先用挡板挡住基片，然后对膜材加热去气。 次数用完API KEY 超过次数限制
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