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光学微电子净化工程亦名无尘室或清净室,已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生物化学、医1药、食品制造等行业不可或缺的重要设施。净化工程的设计中的注意事项:划分和布置空调净化和排风系统,选择合理的空气净化通风设备。在水平流系统中,气流是从一面墙流向另一面墙。在垂直流系统中,气流是从吊顶流向地面。对要求洁净室
无尘车间厂家
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光学微电子净化工程亦名无尘室或清净室,已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生物化学、医1药、食品制造等行业不可或缺的重要设施。净化工程的设计中的注意事项:划分和布置空调净化和排风系统,选择合理的空气净化通风设备。在水平流系统中,气流是从一面墙流向另一面墙。在垂直流系统中,气流是从吊顶流向地面。对要求洁净室的悬浮粒子浓度或微生物浓度更低的场合,就使用单向气流。

洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。当洁净室内相对湿度精度要求≤±10%时zui好不采用。而采用喷干蒸汽和电热(电极)式加湿的方法。净化工程中净化空气调节系统除直流式系统和设置值班风机的系统外,应采取防止室外污染空气通过新风口参入净化车间内的防灌倒措施。

净化工程中各级空气洁净度的空气净化处理,均应采用初效、中效、高1效空气过滤器三级过滤。100000级空气净化处理,可采用亚高1效空气过滤器代高1效空气过滤器。净化工程的设计过程中,应加强对光学微电子行业净化工程设计方案分析了解,根据该工程是新建工程或者是旧厂房改造工程,并结合其具体的生产工艺、生产流程等要求确定其需要的洁净度、温湿度。洁净室系利用HEPA、ULPA过滤空气,其尘埃的收集率达99.97~99.99995%之多,因此经过此过滤器过滤的空气可说十分干净。然而洁净室内除了人以外,尚有机器等之发尘源,这些发生的尘埃一旦扩散,即无法保持洁净空间,因此必须利用气流将发生的尘埃迅速排出室外。

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