脉冲激光沉积的优点
想了解更多关于脉冲激光沉积的相关资讯,请持续关注本公司。
1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜,即具有良好的保成分性;
2. 沉积速率高,试验周期短,衬底温度要求低,制备的薄膜均匀;
3. 工艺参数任意调节,对靶材的种类没有限制;
4. 发展潜力巨大,具有极大的兼容性;
5. 便于清洁处理,可以制备多种薄膜材料。
激光脉冲沉积设备厂家
脉冲激光沉积的优点
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1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜,即具有良好的保成分性;
2. 沉积速率高,试验周期短,衬底温度要求低,制备的薄膜均匀;
3. 工艺参数任意调节,对靶材的种类没有限制;
4. 发展潜力巨大,具有极大的兼容性;
5. 便于清洁处理,可以制备多种薄膜材料。
脉冲激光沉积选件介绍
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——生产、销售脉冲激光沉积,我们公司坚持用户为上帝,想用户之所想,急用户之所急,以诚为本,讲求信誉,以产品求发展,以质量求生存,我们热诚地欢迎各位同仁合作共创。
连续组成扩展(CCS )
常规沉积条件下的组合合成
组合合成是一种基于脉冲激光沉积的、组合材料合成的新型连续组成扩展(CCS) 方法。PLD-CCS 系统能以连续的方式改变材料,没有必要使用掩模。可以在每一次循环中,以小于一个单分子层的速率,连续沉积每一种组份,其结果是基本等同于共沉积法。它涉及高能量脉冲辐射冲击固体靶时,激光与物质之间的所有物理相互作用,亦包括等离子羽状物的形成,其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移,及膜的生成过程。该法无需在沉积后进行退火促进内部扩散或结晶,对于生长温度是关键参数的研究或者被沉积的材料或基片不适合高温退火的情况是有用的。
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