等离子抛光是一种全新的金属表面处理工艺,仅在工件表面的分子层与等离子反应,分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米,处理深度为0.3-4.5纳米.抛光物的表面粗糙度在1MM范围内,因此等离子化学活化工件表面,去除表面分子污染层,交叉链接表面化学物质。
等离子抛光的优势。
抛光技术是金属表面处理的关键技术之一，抛光无论是在传统产业还是在电子数码
电浆抛光厂家
等离子抛光是一种全新的金属表面处理工艺,仅在工件表面的分子层与等离子反应,分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米,处理深度为0.3-4.5纳米.抛光物的表面粗糙度在1MM范围内,因此等离子化学活化工件表面,去除表面分子污染层,交叉链接表面化学物质。
等离子抛光的优势。
抛光技术是金属表面处理的关键技术之一，抛光无论是在传统产业还是在电子数码产业中都是不可或缺的生产步骤。抛光是对工件表面精加工的过程，经过抛光工序，工件表面粗糙度降低，一般说来伴随着光泽度的提高，工件抛光后其机械、物理及化学性能都有不同程度的改善。例如，粗糙度降低光洁度提高，耐腐蚀性提高，缺口敏感性降低，摩擦系数下降，磨损减少。
等离子抛光应用领域及抛光效果 3C电子、 运动器材、汽车配件、、洁具餐具、手表饰品、模具、航空航天，该技术主要用于对不锈钢、铜合金、钛合金、低碳钢等金属零部件的抛光、去毛刺，可以解决航天领域中诸如阀体去毛刺等世界难题。
等离子就是在高温高压下，抛光机水溶液，电子会脱离原子核面跑出来，原子核就形成了一个带正电的离子，当这些离子达到一定的数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子要和抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。
精通眼镜制造的各种工艺技术，还自营有等离子抛光加工点，在多年的实践中，积累了非常丰富的等离子抛光技术的应用经验，等离子抛光能做什么，不能做什么，能做到什么程度，能解决什么问题，能替代哪些工艺，什么材质和结构的产品用什么参数去抛光等，拥有实际的实战成功案例；并针对有代表性的产品抛光难题进行不断摸索、测试、改进，并进行归纳总结，形成了一套行之有效，成熟稳定的环保抛光工艺体系。
这块运用这种等离子抛光主要作用在去除人工打磨纹路，少一次清洗程序，增加美观度，成品率高。由于手工开初和人工打磨精光的时间成本基本相同，结合等离子抛光节约一定的成本，主要效用为大大提高i效率，提高成品率。
等离子抛光作为一种新的抛光工艺，是不锈钢抛光的一种发展趋势。如果能好的利用等离子抛光将为我们节省很多时间和成本。
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