我们提供的一种曝光显影之铭牌加工方法，采用如下步骤：
⑴CAD设计：用CAD软件设计制图排版，通过激光绘图制作菲林感光胶片;
⑵下料：精密剪板机下料304型不锈钢板;
⑶钣金修饰：去除飞边及毛刺，并将坯料进行整平;
⑷除油处理：将坯料放入碱性除油液中进行除油处理;
⑸涂覆光刻油墨：在坯料表面涂布一层均匀的光致抗蚀油墨，形成感光膜，采用负性湿膜滚涂的方法涂覆;
充电宝LOGO曝光显影加工
我们提供的一种曝光显影之铭牌加工方法，采用如下步骤：
⑴CAD设计：用CAD软件设计制图排版，通过激光绘图制作菲林感光胶片;
⑵下料：精密剪板机下料304型不锈钢板;
⑶钣金修饰：去除飞边及毛刺，并将坯料进行整平;
⑷除油处理：将坯料放入碱性除油液中进行除油处理;
⑸涂覆光刻油墨：在坯料表面涂布一层均匀的光致抗蚀油墨，形成感光膜，采用负性湿膜滚涂的方法涂覆;
⑹烘干：将涂好光刻油墨的坯料放入烘箱进行烘烤;
目视定位适用于重氮照相底法。重氮底片呈棕色或橘红色的半透明状态，但不透紫外光，透过重氮图像使底片的焊盘与印制电路板的孔重合对准，然后贴上胶带贴牢，即可进行曝光。
固定销钉定位固定销钉分为固定照相底片和固定印制电路板两套系统，通过调整两销钉的位置，实现底片与印制电路板的重合对准。
曝光后，聚合反应还要持续一段时间，为保证工艺的稳定性，曝光后不要立即揭去聚酯膜，以使聚合反应持续进行。待显影前再揭去聚膜。
蚀刻曝光就是通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。
显影是在硅片表面光刻胶中产生图形的关键步骤。光刻胶上的可溶解区域被化学显影剂溶解，将可见的岛或者窗口图形留在硅片表面。常见的显影方法是旋转、喷雾、浸润，然后显影。硅片用去离子水冲洗后甩干。
蚀刻：蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻利用蚀刻液与铜层反应,蚀去线路板上不需要的铜,得到所要求的线路。蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类。
曝光：经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板上。
（作者： 来源：）
