PVD是物理气相沉积技术的简称，是指在真空条件下，采用物理的方法将材料（俗称靶材或膜料）气化成气态分子、原子或离子，并将其沉积在工件形成具有某种特殊功能的薄膜的技术，常见的PVD沉积技术有：蒸发技术、溅射技术、电弧技术。
目前,提高NbFeB永磁材料耐腐蚀性能的方法有添加合金元素和外加防护性镀层,但主要以添加防护性镀层(金属镀层、有机物镀层和复合镀层)为主。防护性镀层可以
气相沉积设备厂商
PVD是物理气相沉积技术的简称，是指在真空条件下，采用物理的方法将材料（俗称靶材或膜料）气化成气态分子、原子或离子，并将其沉积在工件形成具有某种特殊功能的薄膜的技术，常见的PVD沉积技术有：蒸发技术、溅射技术、电弧技术。
目前,提高NbFeB永磁材料耐腐蚀性能的方法有添加合金元素和外加防护性镀层,但主要以添加防护性镀层(金属镀层、有机物镀层和复合镀层)为主。防护性镀层可以阻碍腐蚀相与基体之间的相互接触从而减缓磁体的腐蚀。添加镀层的方法有电镀、化学镀、物理气相沉积等。5、真空镀膜适当的增加环境的湿度，有利于降低周围环境的悬浮固体颗粒物。
镀膜技术在信息存储领域中的应用 薄膜材料作为信息记录于存储介质，有其得天独厚的优势：由于薄膜很薄可以忽略涡流损耗；磁化反转极为迅速；与膜面平行的双稳态状态容易保持等。车灯镀膜机 为了更精密地记录与存储信息，必然要采用镀膜技术。
镀膜技术在传感器方面的应用 在传感器中，多采用那些电气性质相对于物理量、化学量及其变化来说，极为敏感的半导体材料。
装饰性真空镀的涂层一般分为底涂层和面涂层两种，它们主要起提高膜层的结合力，降低镀件表面的粗糙度，提高光亮度，保护金属膜层的作用。
真空镀膜设备对底涂层有何要求。
1、对镀件与镀膜层有良好的接触性能，热膨胀系数相差小，不起反应，流平性能好。
2、具有良好的真空性能。
3、成膜性能好，涂层的致密度、覆盖能力、抗溶剂能力与耐光照能力等性能良好。
4、与面涂层有良好的相溶性。
5、施涂性能良好。流平性能良好，有适当的黏度、固化时间短。
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