等离子抛光是一种全新的金属表面处理工艺,仅在工件表面的分子层与等离子反应,分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米,处理深度为0.3-4.5纳米.抛光物的表面粗糙度在1MM范围内,因此等离子化学活化工件表面,去除表面分子污染层,交叉链接表面化学物质。
等离子抛光的优势。
抛光技术是金属表面处理的关键技术之一，抛光无论是在传统产业还是在电子数码
电浆抛光加工
等离子抛光是一种全新的金属表面处理工艺,仅在工件表面的分子层与等离子反应,分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米,处理深度为0.3-4.5纳米.抛光物的表面粗糙度在1MM范围内,因此等离子化学活化工件表面,去除表面分子污染层,交叉链接表面化学物质。
等离子抛光的优势。
抛光技术是金属表面处理的关键技术之一，抛光无论是在传统产业还是在电子数码产业中都是不可或缺的生产步骤。抛光是对工件表面精加工的过程，经过抛光工序，工件表面粗糙度降低，一般说来伴随着光泽度的提高，工件抛光后其机械、物理及化学性能都有不同程度的改善。例如，粗糙度降低光洁度提高，耐腐蚀性提高，缺口敏感性降低，摩擦系数下降，磨损减少。
微观不平处的氧化层薄，因此侵蚀总是发生在凸起部位。此外，被抛光表面被施加足够高的电压后，它和气体层、蒸气、电解液之间会产生很高的电场强度，这种强度也在微观不平处得到强化。这些使表面微观凸起部位被削平，达到抛光效果。
这是目前的抛光技术，在未来有替代化学抛光、电解抛光、机械抛光等污染型抛光技术的趋势。等离子抛光后，材料表面微观形态变化使产品表面质量提升、性能改善：粗糙度降低，均匀性提升，性和抗腐蚀性更强，抛光难度降低，减少了产品变形，提高了尺寸稳定性，是做产品的利器。
等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺,仅在工件表面的分子层与等离子反应,分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米,处理深度为0.3-4.5纳米.抛光物的表面粗糙度在1MM范围内,因此等离子纳米化学活化工件表面,去除表面分子污染层,交叉链接表面化学物质.
等离子抛光是工件与抛光液中通电脱离的金属离子吸附在工件表面，工件凸起处电流冲击高而去除快，电流流动，凹凸不断变化，粗糙表面逐渐被整平。
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