磁控溅射真空镀膜机导致不均的因素哪些？从事这方面工作的朋友其实还是比较的了解的，它主要可以分为以下几个因素就是：真空状态、磁场、亚气。
磁场是正交运作的，但你要将磁场强度做到一定均匀是不可能的，一般磁场强的地方，成膜厚度就大，相反就小，所以会造成膜层厚度的不一致，不过在生产过程中，由于磁场的不均匀导致的膜层不均匀的情况却不是常见的，为什么呢？
东莞市仁睿电子
电镀AF供应
磁控溅射真空镀膜机导致不均的因素哪些？从事这方面工作的朋友其实还是比较的了解的，它主要可以分为以下几个因素就是：真空状态、磁场、亚气。
磁场是正交运作的，但你要将磁场强度做到一定均匀是不可能的，一般磁场强的地方，成膜厚度就大，相反就小，所以会造成膜层厚度的不一致，不过在生产过程中，由于磁场的不均匀导致的膜层不均匀的情况却不是常见的，为什么呢？
东莞市仁睿电子科技有限公司主营加工：光学镀膜、光学玻璃镀膜、光学镜片镀膜、真空光学镀膜、光学真空镀膜、染色加工、塑料染色加工、杯子渐变加工、塑料渐变加工、亚克力面板、视窗镜片、PC手机壳。
光学镀膜所采用的方法主要有蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积镀以及分子束外延等。此外还有化学气相沉积法。如果从光学镀膜的目的是为了改变物质表面的物理、化学性能的话，这一技术又是真空表面处理技术中的重要组成部分。
光学光学镀膜，就是指在基板表面用物理或化学等方法沉积的一层或多层介电质膜，金属膜或这两类材料的组合膜，其实质是利用光的干涉原理，通过改变光的传播特性来产生增反、增透、分光、分色、截止、带通等光学现象。这些光学特性可以通过特征矩阵计算得到，而重要也是核心的参数就是光学镀膜的光学常数。
在镀膜方式上，比较普遍的是采用蒸发镀或者磁控溅射镀或者离子镀，在控制技术上，更多的应用的计算机技术和微电子技术，使得光学镀膜设备更具性和智能自动化。
（作者： 来源：）
