真空镀膜磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击亚气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。
不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁
PVD电镀表面处理
真空镀膜磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击亚气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。
不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。
当光线进入不同传递物质时(如由空气进入玻璃)，大约有5%会被反射掉，在光学瞄准中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30%至40%。现代光学透镜通常都镀有单层或多层氟化镁的增透膜，单层增透膜可使反射减少至1.5%，多层增透膜则可让反射降低至0.25%，所以整个瞄准如果加以适当真空镀膜，光线透穿率可达95%。镀了单层增透膜的镜片通常是蓝紫色或是红色，镀多层增透膜的镜片则呈淡绿色或暗紫色。
硬质涂层中的应用：切削工具、模具和耐腐蚀零件等。
在防护涂层中的应用：飞机发动机的叶片、汽车钢板、散热片等。
在光学薄膜领域中的应用：增透膜、高反膜、截止滤光片、防伪膜等。
在建筑玻璃方面的应用：阳光控制膜、低辐射玻璃、防雾防露和自清洁玻璃等。
在太阳能利用领域的应用：太阳能集热管、太阳能电池等。
在集成电路制造中的应用：薄膜电阻器、薄膜电容器、薄膜温度传感器等。
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