压力差的维持依靠新风量，这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。所以压力差的物理意义就是漏泄（或渗透）风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力。在实际施工中，净化项目通常分为，分工和分时。 这种安排有利于各种和工作类型的管理。 但是，易于进行多尘和无尘的交叉操作，应尽可能避免这种结构布置。 如果不可避免，应该防止灰尘和有效清洁。相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低
净化工程施工
压力差的维持依靠新风量，这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。所以压力差的物理意义就是漏泄（或渗透）风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力。在实际施工中，净化项目通常分为，分工和分时。 这种安排有利于各种和工作类型的管理。 但是，易于进行多尘和无尘的交叉操作，应尽可能避免这种结构布置。 如果不可避免，应该防止灰尘和有效清洁。相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。
设计净化系统组织的原则是相邻二级过滤器的效率不能太接近，也不能相差太大。一般采用初效、中效、亚(或)三级过滤器。也可分四级，增加一级过滤器。一般洁净室高度控制在2.60米，对个别较高的设备可在局部加高，而不宜提高洁净区的高度。洁净室中的温湿度控制。洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到 人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。
100级：是常用的净化工程，除了对空气中的尘埃数有要求，对空气中细菌的浓度也有明确要求。一般用于医行业进行无菌制造，例如制造临床用于植入人体内的物品，药生产。医学科学实验也在此环境中，包括实验动物饲养环境。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力。洁净度级别高的空间的压力要高于相邻的洁净度级别低的空间的压力。相通洁净室之间的门要开向洁净度级别高的房间"
（作者： 来源：）
