高纯/特种气体的概念
半导体集成电路制造所需要的高纯气体主要分为两大类：
1.普通气体：也叫大宗气体，主要有：H2 、N2 、O2 、Ar 、He等。
2.特种气体：主要指各种掺杂用气体、外延用气体、离子注入用气体、刻蚀用气体等。
半导体制造用气体按照使用时的危险性分类：
1.可燃、助燃、易然易暴气体：H2 、CH4、H2S、NH3 、SiH4、P
尾气检测标准气体
高纯/特种气体的概念
半导体集成电路制造所需要的
高纯气体主要分为两大类：
1.普通气体：也叫大宗气体，主要有：H2 、N2 、O2 、Ar 、He等。
2.特种气体：主要指各种掺杂用气体、外延用气体、离子注入用气体、刻蚀用气体等。
半导体制造用气体按照使用时的危险性分类：
1.可燃、助燃、易然易暴气体：H2 、CH4、H2S、NH3 、SiH4、PH3 、B2H6、SiH2CL3、CLF3、SiHCL3等
2.有毒气体：AsH3、PH3 、B2H6等
3.助燃气体：O2 、N2O、F2 、HF等
4.窒息性气体：N2 、He 、CO2、Ar等
5.腐蚀性气体：HCL 、PCL3 、POCL3 、HF、SiF4、CLF3等
高纯气体的原材料难以再产
高纯原料气体的质量对标准气体制备的准确性，起着至关重要的作用，原料气的不确定是构成标准气体合成不确定度的极为重要部分，因此，没有高质量的高纯原料气，就根本制备不出高准度的标准气体。也正因如此，我国早在八十年代，为了标准气体的需要，原化工部对我国的高纯气体研制进行了多年的资金支持。
高纯气体概述
高纯气体(High Purity Gases)气体工业名词，通常指利用现代提纯技术能达到的某个等级纯度的气体。对于不同类别的气体，纯度指标不同，例如对于氢，氮，氦，而言，通常指纯度等于或高于99.999%的为高纯气体；而对于氧气，纯度为99.199%即可称高纯氧；对于碳氢化合物，纯度为99199%的即可认为是高纯气体。高纯气体应用领域极宽，在半导体工业，高纯氮，氢，，氦可作为运载气，保护气和配制混合气的底气。
高纯气体根据分子结构的不同可以分为有机高纯气体，和无机高纯气体。
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