真空镀膜机真空的清洗方法,你知道吗
真空镀膜机真空清洗一般定义为在真空工艺进行前,先从工件或系统材料表面清除所不期望的物质的过程。真空零部件的表面清洗处理是很必要的,因为由污染物所造成的气体、蒸气源会使真空系统不能获得所要求的真空度。此外,由于污染物的存在,还会影响真空部件连接处的强度和密封性能。
一.真空加热清洗
将工件放置于常压或真空
光学镀膜机
真空镀膜机真空的清洗方法,你知道吗
真空镀膜机真空清洗一般定义为在真空工艺进行前,先从工件或系统材料表面清除所不期望的物质的过程。真空零部件的表面清洗处理是很必要的,因为由污染物所造成的气体、蒸气源会使真空系统不能获得所要求的真空度。此外,由于污染物的存在,还会影响真空部件连接处的强度和密封性能。
一.真空加热清洗
将工件放置于常压或真空中加热.促使其表面上的挥发杂质蒸发来达到清洗的目的,这种方法的清洗效果与工件的环境压力、在真空中保留时间的长短、加热温度、污染物的类型及工件材料有关。其原理是加热工件.促使其表面吸附的水分子和各种碳氢化合物分子的解吸作用增强。解吸增强的程度与温度有关。在超高真空下,为了得到原子级清洁表面,加热温度必高于450度才行.加热清洗方法特别有效。但有时,这种处理方法也会产生副作用。由于加热的结果,可能发生某些碳氢化合物聚合成较大的团粒,并同时分解成碳渣
二.紫外线辐照清洗
利用紫外辐照来分解表面上的碳氢化合物。例如,在空气中照射15h就可产生清洁的玻璃表面。如果把适当预清洗的表面放在一个产生臭氧的紫外线源中.要不了几分钟就可以形成清洁表面(工艺清洁)。这表明臭氧的存在增加了清洁速率。其清洗机理是:在紫外线照射下,污物分子受激并离解,而臭氧的生成和存在产生高活性的原子态氧。受激的污物分子和由污物离解产生的自由基与原子态氧作用.形成较简单易挥发分子.如H203、CO2和N2.其反应速率随温度的增加而增加.
真空镀膜机镀铝时,应该注意哪些事项
用真空镀膜设备镀铝膜,基本工艺流程为:预真空─离子清洗─镀铝─离子轰击─镀保护膜─放气。预真空对镀膜室抽真空至5×10,2Pa时,充入Ar气430mL,利用2个适当的电极间的低压辉光放电产生的离子轰击达到清洗和辅助预热镀膜基底的作用,轰击时间为150s;镀铝部分蒸发器升至高温,铝丝从预热、熔化、蒸发镀铝到镀铝完成的时间为30s多;采用二次离子轰击,去除膜表面粒状颗粒,使膜层更加致密,轰击时间为80s;镀保护膜时间为(200±50)s,真空度为3×102Pa,由充入的硅油流量加少量Ar气来控制真空度,硅油流量由调节阀控制,直至放气结束。
小型实验真空镀膜机
小型实验真空镀膜机适用于任意底色的塑料,陶瓷、树脂工艺品,玻璃等经真空镀膜后皆可镀成金、银、七彩、红、紫、蓝、灰、黑等多种鲜艳颜色,具有提高产品档次,外观更显华贵作用。采用电阻热蒸发方式进行镀膜、功能,适应性强的特点。可以采用电阻蒸发镀,电弧镀或磁控溅射镀。
小型实验真空镀膜机适用于任意底色的塑料,陶瓷、树脂工艺品,玻璃等经真空镀膜后皆可镀成金、银、七彩、红、紫、蓝、灰、黑等多种鲜艳颜色,具有提高产品档次,外观更显华贵作用。实验用真空镀膜机具有外形美观、结构紧凑、占地面积小、易维护的特点。可实现全自动控制或手动控制、操作简单可靠,可自动完成各种镀膜工艺参数。可以采用电阻蒸发镀,电弧镀或磁控溅射镀。不管是哪种镀膜方式均可用于科研、教学、电子元件、及涂料生产等行业的表面表面镀膜,可电镀铝、锡、铜、铬等金属。
真空镀膜设备作业时的应急预案很实用
真空镀膜设备作业时的应急预案很实用
1、设备工作一段时间需清理打扫
设备工作一段时间,一般50到70炉次,需清理打扫,把粉尘清出炉外,然后空炉工作一次。工作的方式是先抽空为真空度高于10-2Pa时加热,加热温度一般高于正常使用温度的20℃。在高炉温时保温一个小时以上,然后自然冷却。这样使设备内部空间保持清洁。
2、更换充气气瓶
设备所用充气气瓶需更换时,拆掉稳压阀,换上一瓶新气,一定要注意安装时不许漏气。在换上新气瓶后,在工件没加热前,应在抽空过程中对炉内充气,以便在换气瓶过程中造成的管路内存有的大气抽出,使充气管路保持清洁。

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