相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。1000级 一般只对尘埃浓度做要求，用于光学器件，仪器等高精仪器等10000级，用于液压设备的生产，和一些食品饮料的生产。100000级，这个级别比较的低，对净化度要求不是很高，主要在印刷厂，包装厂等。洁净室中的温湿度控
医院净化工程
相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。1000级 一般只对尘埃浓度做要求，用于光学器件，仪器等高精仪器等10000级，用于液压设备的生产，和一些食品饮料的生产。100000级，这个级别比较的低，对净化度要求不是很高，主要在印刷厂，包装厂等。洁净室中的温湿度控制。洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到 人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。
相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。地面可采用环氧自流坪地坪或塑料地板，有防静电要求的，要选用防静电型。送回风管道一般用镀锌钢板，不宜选用玻璃棉类材料保温。照明应选用净化车间灯具。洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力。洁净度级别高的空间的压力要高于相邻的洁净度级别低的空间的压力。相通洁净室之间的门要开向洁净度级别高的房间"
净化工程的一般施工程序：粉尘作业，无尘作业后，不允许交叉作业。 否则会影响项目的质量。 也就是说，在完成所有粉尘产生操作之后，可以进行无尘操作。要说净化工程在发展的前景方面，形势还是非常好的，市场需求更是一片大好。因为我们的制药、电子信息等行业都在迅速发展，所以对净化工程行业的发展起到了带动的作用。在这里需要提醒大家的是自从我们的医方面的改条文GMP-2010发布之后，既推动了生物医和食品化工行业的发展，也间接的推动了净化工程行业的发展。而且相关方面支持也让净化工程行业的发展机遇推到了非常好。100级：是常用的净化工程，除了对空气中的尘埃数有要求，对空气中细菌的浓度也有明确要求。一般用于医行业进行无菌制造，例如制造临床用于植入人体内的物品，药生产。医学科学实验也在此环境中，包括实验动物饲养环境。
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