真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。
真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。
物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某
AF镀膜机
真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。
真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。
物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。物理气相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。同时，物理气相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因此可作为终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。由于采用物理气相沉积工艺可大幅度提高刀具的切削性能，人们在竞相开发、高可靠性设备的同时，也对其应用领域的扩展，尤其是在高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具中的应用进行了更加深入的研究。
化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。
高真空蒸发镀膜设备有哪些特点
真空蒸发镀膜装置，是在真空室中利用电阻加热，将金属镀料熔融、汽化，让金属分子沉积在基片上，获得光滑的高反射率的金属膜层，达到装饰美化物品表面的目的。真空蒸发镀膜装置，是在真空室中利用电阻加热，将金属镀料熔融、汽化，让金属分子沉积在基片上，获得光滑的高反射率的金属膜层，达到装饰美化物品表面的目的。
高真空蒸发镀膜设备具有结构合理、抽速大、工作周期短、生产、操作方便，能耗低、工作稳定，且膜层均匀、成膜质量好等优点。该设备主要广泛应用于汽车、音响、各类小家电、电脑、钟表、手机、反光杯、化妆品、玩具等行业。
可加工的材料包括：ABS、PS、PP、PVC、TPU、PC、尼龙、玻璃、陶瓷、金属等。
可镀基材表面状态：电镀亮面、哑光面（半哑、全哑）、工艺电镀、拉丝、雨滴等；镀制颜色有：金、银、红、蓝、绿、紫、七彩等。可根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。
真空镀膜封的安装与使用
真空镀膜封的安装与使用
1、机械密封对机器精度的要求：（以真空泵的机械密封为例）（1）安装机械密封部位的轴（或轴套）的径向跳动公差大不超过0.04～0.06mm.（2）转子轴向窜动不超过0.3mm.（3）密封腔体与密封端盖结合的定位端面对轴（或轴套）表面的跳动公差大不超过0.04～0.06mm.
2、密封件的确认：（1）确认所安装的密封是否与要求的型号一致。（2）安装前要仔细地与总装图对照，零件数量是否。（3）采用并圈弹簧传动的机械密封，其弹簧有左、右旋之分，须按转轴的旋向来选择。
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