Parylene HT，该材料具有更低的介电常数(即透波性能好)、好的稳定性和防水、防霉、防盐雾性能.短期耐温可450摄氏度，长期耐温
CVD（Chemical Vapor Deition）法：将对二和水蒸气按一定比例混合，经 950~1000 °C高温热解，得到对二环二体(dimer)，随后，经提纯的二聚体在 120°C 的升华区内升华，
派瑞林绝缘涂层
Parylene HT，该材料具有更低的介电常数(即透波性能好)、好的稳定性和防水、防霉、防盐雾性能.短期耐温可450摄氏度，长期耐温
CVD（Chemical Vapor Deition）法：将对二和水蒸气按一定比例混合，经 950~1000 °C高温热解，得到对二环二体(dimer)，随后，经提纯的二聚体在 120°C 的升华区内升华，在惰性气体的推动下，二聚体进入温度为 660°C 的裂解区，高温下二聚体的分子键断裂，生成活性的对二活性单体(monomer)，后在惰性气体气的推动下，活性单体在常温或较低温度下的真空沉积室里，在相应的基体材料的表面聚合沉积为parylene 薄膜。
真空镀膜是一种由物理方法造成塑料薄膜原材料的技术性，在真空泵房间内原材料的分子从加温源混凝土离析出去打进被镀物件的表层上。该项技术性用以生产制造光学激光镜片，如远洋航行望远镜镜片等；后拓宽到别的作用塑料薄膜，游戏设备镀铝膜、装饰设计镀膜和原材料表层改性材料等，纳米镀膜生产商，如腕表机壳镀仿金黄，机械设备数控刀片镀膜，更改生产加工红强制。真空镀膜有三种方式，即挥发镀膜、磁控溅射镀膜和等离子喷涂。真空镀膜的作用是各个方面的，这也决策了其运用场所比较丰富。整体而言，真空镀膜的关键作用包含授予被镀件表层高宽比金属质感和镜面玻璃实际效果，在塑料薄膜原材料上使膜层具备优异的隔绝特性，出示出色的磁屏蔽材料和导电性实际效果。
真空镀膜技术性被称作发展前景的关键技术性之一， 镀膜企业并已在高新技术产业发展的发展趋势中展示出的行业前景。
工艺方面水性三防漆由于干燥固化较慢，为了标准的涂覆控制，好是选择喷涂，而喷涂有一些电子制造企业并不具备喷涂和加热固化产线，外发加工会增加时间成本，周转损失，对整体生产进度影响较大，而纳米涂层推荐使用浸涂工艺，再加上固化秒干，可直接在本厂产线完成，可以理解为浸涂后几分钟就可以进行下一个工序。
附着力方面纳米涂层要略弱一些，尖锐的工具或者指甲都可能会划破，不过这个不足有时也成为了优势，比如不小心浸涂到USB之类的插件上，导致插件绝缘，但只要插拔几次即可导通。水性三防漆的附着力要优于纳米涂层。
关于膜厚度方面纳米涂层本身是纳米级材料，涂膜比水性三防漆薄，可以达到1微米左右，肉眼看不到、膜厚仪测不到的厚度，而水性三防漆就要厚很多。
原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法（技术）。当前驱体达到沉积基体表面，它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。在前驱体脉冲之间需要用惰性气体对原子层沉积反应器进行清洗。由此可知沉积反应前驱体物质能否在被沉积材料表面化学吸附是实现原子层沉积的关键。气相物质在基体材料的表面吸附特征可以看出，任何气相物质在材料表面都可以进行物理吸附，但是要实现在材料表面的化学吸附必须具有一定的活化能，因此能否实现原子层沉积，选择合适的反应前驱体物质是很重要的。
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