发展在过去我国的洁净技术和设备与国外相比差距是明显的发展
在过去我国的洁净技术和设备与国外相比差距是明显的，我国1965年才开始生产的HEPA过滤器，比国外了十五年。1975年开始生产的光散射尘埃粒子计数器比国外晚了二十年。0.1微米洁净技术和设备在国际上已成为成熟技术，我国则刚刚起步。
在洁净室建设规模和技术水平上，我国与差距更大。日本清水建设
天津净化工程公司
发展在过去我国的洁净技术和设备与国外相比差距是明显的
发展
在过去我国的洁净技术和设备与国外相比差距是明显的，我国1965年才开始生产的HEPA过滤器，比国外了十五年。1975年开始生产的光散射尘埃粒子计数器比国外晚了二十年。0.1微米洁净技术和设备在国际上已成为成熟技术，我国则刚刚起步。
在洁净室建设规模和技术水平上，我国与差距更大。日本清水建设公司一家，1982年到1987年期间承建的洁净室面积达71.8万平方米，而我国目年承建的洁净室总面积还不到10万平方米，但八五期间有较大发展，1993年承建洁净室总面积已接近15万平方米。美国的洁净室建设规模更大，1998年统计已达188.5万平方米。
洁净技术方向发展空气分子污染
洁净技术方向发展
空气分子污染（Airborne Molecular Contaminants，AMC）作为IC工厂所关心的问题于20年前由日本人提出，近年来，世界IC技术发展迅速，IC芯片日益微型化。AMC对当前的IC生产其潜在的污染比粒子污染要广泛多，粒子污染控制只需要确定粒径及个数，但对AMC控制而言，除了受芯片线宽的缩小而变化外，并受工艺、工艺设备、工艺材料及传送系统等的影响。更有甚者用于某一工序的各种工艺材料（化学品、特种气体等）在很多情况下其微量的分子残余对下一工序往往可能就是污染物。因此，IC生产过程中的某些加工工序及工序间的材料传送和存放环境中，AMC已成为严重影响成品率的重要问题，AMC分子控制技术成为洁净工程设计与施工建设的主流趋势。目前，国内的洁净工程企业中已经开始从事此方向的研究，在该领域比较的企业有亚翔集成，在分子净化技术方面该公司已经走在了同行业的前列，而电子工程设计院则在防微震方面。
洁净工程(净化工程)系统主要组成部分
初涉净化车间工程的朋友可能对净化工程的组成系统不了解，不清楚净化工程系统主要有哪些系统组成，这里就为大家简单的介绍下洁净工程(净化工程)系统的主要组成部分，通过这篇文章的介绍，对各位朋友对净化工程的了解有所帮助。
车间净化工程主要的组成部分有六大部分，分别为：地面系统、风管系统、自控系统、电气系统、给排水系统、空气过滤系统六大部分。
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