不导电（NCVM）镀膜设备NCVM又称不连续镀膜技术或不导电电镀技术，是一种起缘普通真空电镀的高新技术。真空电镀，简称 vm， 是vacuum metalization的缩写。它是指金属材料在真空条件下，运用化学和物理等特定手段进行有机转换，使金属转换成粒子，沉积或吸附在塑胶材料的表面，形成膜，也就是我们所谓的镀膜。
进口不导电（NCVM）
防腐镀膜
不导电（NCVM）镀膜设备NCVM又称不连续镀膜技术或不导电电镀技术，是一种起缘普通真空电镀的高新技术。真空电镀，简称 vm， 是vacuum metalization的缩写。它是指金属材料在真空条件下，运用化学和物理等特定手段进行有机转换，使金属转换成粒子，沉积或吸附在塑胶材料的表面，形成膜，也就是我们所谓的镀膜。
进口不导电（NCVM）镀膜设备应用于塑料电子产品:手机外壳、手机按键、电脑、数码、电子通信等的表面镀制不导电膜（NCVM）。大功率蒸发系统，可控硅控制，重复性、稳定性高,独有镀透电极设计，配置石英晶振，可控制任何膜层厚度,拥有的工件架技术，转速平稳可调，产量大且良品率高。
钕铁硼稀土磁性材料是一种问世不久的新型强磁材料。目前国内常用两种方法进行防护，一种是传统的电镀工艺在 铁硼磁性材料表面镀上镍、锌或锡、金等。这些涂层有时会影响磁性材料的表磁等特性，有的在盐雾试验时仍不能对钕铁硼磁性材料提供有效的防护。另一种方法是用环氧树脂材料进行电泳涂敷，但电泳涂敷时工件表面必须有一挂点，挂点的修补不仅费工费时，而且质量难以保证，而Parylene涂层技术可控制涂层厚度进行无支点全涂敷防护。派瑞林（Parylene）又是一种透氧、透水汽率非常低的高分子薄膜材料，目前国外小型钕铁硼稀土磁性材料都已采用派瑞林（Parylene）进行防护。
用制备派瑞林的方法是化学气相沉积法(CVD)，反应物质在气态条件下发生空间气相化学反应，在固态基体表面直接生成固态物质，进而在基材表面形成涂层的一种工艺技术。派瑞林薄膜制备过程为环状二聚体在高温下两个相连碳碳键断裂，生成具有活性的对二亚苯单体，当其从高温环境进入室温环境的沉积室时，不稳定的单体就会聚合成膜。整个制备工艺过程分为三步：单体的汽化、裂解、在基材表面进行附着沉积。
原子层沉积是在一个加热反应器中的衬底上连续引入至少两种气相前驱体物种，化学吸附的过程直至表面饱和时就自动终止，适当的过程温度阻碍了分子在表面的物理吸附。
目前可以沉积的材料包括：氧化物，氮化物，氟化物，金属，碳化物，复合结构，硫化物，纳米薄层等。 中空纳米管，隧道势垒层，光电电池性能的提高，纳米孔道尺寸的控制，高高宽比纳米图形，微机电系统（MEMS）的反静态阻力涂层和疏水涂层的种子层，纳米晶体，ZnSe涂层，纳米结构，中空纳米碗，存储硅点涂层，纳米颗粒的涂层，纳米孔内部的涂层，纳米线的涂层。
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