高真空蒸发镀膜设备有哪些特点
真空蒸发镀膜装置，是在真空室中利用电阻加热，将金属镀料熔融、汽化，让金属分子沉积在基片上，获得光滑的高反射率的金属膜层，达到装饰美化物品表面的目的。真空蒸发镀膜装置，是在真空室中利用电阻加热，将金属镀料熔融、汽化，让金属分子沉积在基片上，获得光滑的高反射率的金属膜层，达到装饰美化物品表面的目的。
高真空蒸发镀膜设备
AF光学镀膜机厂家
高真空蒸发镀膜设备有哪些特点
真空蒸发镀膜装置，是在真空室中利用电阻加热，将金属镀料熔融、汽化，让金属分子沉积在基片上，获得光滑的高反射率的金属膜层，达到装饰美化物品表面的目的。真空蒸发镀膜装置，是在真空室中利用电阻加热，将金属镀料熔融、汽化，让金属分子沉积在基片上，获得光滑的高反射率的金属膜层，达到装饰美化物品表面的目的。
高真空蒸发镀膜设备具有结构合理、抽速大、工作周期短、生产、操作方便，能耗低、工作稳定，且膜层均匀、成膜质量好等优点。该设备主要广泛应用于汽车、音响、各类小家电、电脑、钟表、手机、反光杯、化妆品、玩具等行业。
可加工的材料包括：ABS、PS、PP、PVC、TPU、PC、尼龙、玻璃、陶瓷、金属等。
可镀基材表面状态：电镀亮面、哑光面（半哑、全哑）、工艺电镀、拉丝、雨滴等；镀制颜色有：金、银、红、蓝、绿、紫、七彩等。可根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。
冷成型模真空镀膜机
高强度材料成形冷成型模真空镀膜机高强度金属成型中存在的高成型压力和产生的摩擦成为工模具和涂层要面对的重要挑战。PVD和CVD涂层展示的韧性、性和抗磨损性能显著提高工具的生产能力。
HC90Concept，作为一种无需氮化处理的新型物理气相沉积（PVD）涂层，对于这些应用领域来讲是非常理想的解决方案。HC22，HC25，HC30或HC62，均结合了氮化处理，对于公差要求高的工具是非常合适的涂层方案。HC02和HC62是非常适合公差要求不高工具的涂层方案。
有色金属材料成型有色金属材料通常比一般钢材有更好的成形性，但其表面更难改变。HCPVD和PACVD涂层工艺的韧性、性、低摩擦和抗磨损性能够显著加强工具的生产能力，提高零部件的质量。冷锻冷锻是一种将固定大小的金属块组合成等量的复杂形状的成型工艺。此过程中的工模具要经受高强度的压力和高速率，和工件接触的表面必然会产生磨料和粘着磨损。HCPVD和PACVD和HCCVD涂层工艺的韧性、性和低摩擦性能能够显著提高工模具的使用寿命和产品的质量。
包装卷绕真空镀膜设备
HCPAK系列卷绕镀膜设备是用于铝屏障包装应用的卷对卷金属化解决方案。在利润率较低的行业中，的生产效率，再加上的产品性能，是应对未来挑战的。
通过将传统的铝涂层沉积到宽范围的柔性基板上增强光学、保护和阻隔性能。HCPAK系列覆盖了1100～3850mm的宽幅，以及所有常见的塑料薄膜和纸张基材，针对2500mm以上大宽幅基材以不同的速度实现输出，比传统系统提高25%以上的处理速度。
特点：高正常运行时间，因为一个强大和服务友好的机器概念由于强大的等离子预处理，产品一致性高，阻隔性能提高由于铝蒸发器源的优化配置，在层均匀性方面具有的产量简化操作和优化设计，便于操作的设备卷绕系统的设计概念使卷绕路径能够灵活地适应基板和应用的个别要求。由于稳健的机器设计，正常运行时间很长
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